JL- 035緊湊型、桌面式配置等離子處理設(shè)備

JL-035是特別設(shè)計的均勻清洗和處理的等離子設(shè)備，具有易操作性強、可靠性高、低成本的優(yōu)點。AP-300是完全獨立的系統(tǒng)，需要很小的空間。等離子腔體、控制設(shè)備、13.56MHz的等離子發(fā)生器。

自動匹配網(wǎng)絡(luò)都安裝在底盤上，一個連鎖的門和面板提供了維護通道。等離子腔體由耐用的高品質(zhì)鋁

做成的，并且?guī)в袖X支架。腔體里有最多達7個可移動的、可調(diào)整的電源極或接地極支架，以適應(yīng)更款

范圍的器件、組件或工裝Magazines、Trays或Boats。

清洗、表面活化、改善粘性

JL-035系統(tǒng)適合多種多樣的等離子清洗、表面活化和改善粘性等應(yīng)用，倍廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體器件制造、微電子封裝和組裝、醫(yī)療設(shè)備器件和生命科學(xué)器件的制造等。AP-300適合多種工藝氣體，例如Ar、O2、H2、He及氟化合物氣體，通過2個（標(biāo)準(zhǔn)配置）氣體質(zhì)量流量控制器控制氣體的標(biāo)準(zhǔn)，系統(tǒng)還可以

選配2個氣體質(zhì)量流量控制器來提高系統(tǒng)的控制性能。

半導(dǎo)體和微電子應(yīng)用舉例：

* 粘片前進行處理，提高芯片附著力；

* 鍵合前進行處理，提高鍵合強度；

* 塑模和封裝前進行處理，減少封裝分層；

* Flip chip采用underfill工藝底部填充前進行處理，可以提高填充速度、減少空洞率、增加填充高度及一

致性、增加填充物的附著力。

等離子處理設(shè)備功能：

* 觸摸屏控制及圖形用戶界面，提供實時過程顯示；

* 靈活的支架，具有適應(yīng)多種器件、組件及工裝的能力；

* 帶有自動匹配網(wǎng)絡(luò)的13.57MHz的RF發(fā)生器，保證設(shè)備優(yōu)異過程一致性；

* 設(shè)備滿足簡便的定期校準(zhǔn)需要。