（2）基態CO2分子吸收能量轉變為激發態CO2分子，增加油漆附著力噴丸顯然CO2轉化主要依賴于前者。 在相同的plasma等離子體條件下，純CH4和純CO2的轉化率分別為10.9%和9.4%， CH4和CO2共進料時CH4和CO2轉化率均高于上述數值，說明CH4和CO2共進料 有利于兩者的共活化。 當體系內 CO2濃度由15%增至35%時，C2烴收率略有增加；隨著體系內CO2濃度的進一步增加，C2烴收率逐漸下降。

甲烷和乙烷的混合氣廣泛存在于天然氣、油田氣、精煉氣、催化分解氣中，增加油漆附著力噴丸乙烷的相對含量較低。分離和純化甲烷和乙烷并單獨使用它們的成本很高。實際需要使用含有一部分乙烷的甲烷作為轉化反應的原料而不進行分離。我國已探明石油儲量2.27×1017T，天然氣儲量1.97×1021M3。隨著上述PLASMA資源的不斷開發利用，天然氣、油田氣、精煉氣和催化裂化氣中的乙烷含量將成倍增加。

CO2添加量對等離子等離子體下CH4轉化反應的影響：在O2等離子體甲烷氧化偶聯反應中，增加油漆附著力噴丸O2的加入量直接影響CH4的轉化率和C2烴的選擇性，O2的加入量減少。 CH4的轉化率如下。少量、過量添加 O2 會導致 CH4 氧化為 COx (x = 1, 2)。等離子體作用下的CO2氧化CH轉化反應還包括加入適量的CO2。隨著供氣中CO2濃度從15%增加到85%，CH4的轉化率逐漸提高，從以下結果可以看出轉化率。

另外，增加油漆附著力噴丸大量的離子持續轟擊基體表面，產生類似于噴丸處理的效果，導致基體表面的應力狀態發生改變、產生塑性變形、促進了基體表面缺陷的產生，甚至對基體的表面粗糙度也存在著影響，繼而達到了基體的表面改性。而這些基體的表面改性會降低原子的擴散激活能、提供擴散通道甚至擴散驅動力，從而促進了原子的擴散。因此，離子轟擊一方面有效去除了基體表面氧化膜，起到了表面清潔作用；另一方面改變了基體表面狀態，實現了基體的表面改性。

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其基本原理是：在低氣壓下，由ICP射頻電源向環形耦合線圈輸出，通過耦合輝光放電，混合刻蝕氣體通過耦合輝光放電，產生高密度等離子體，在下電極RF作用下，在基片表面轟擊，基片圖形區域內的半導體材料的化學鍵被打斷，與刻蝕氣體產生揮發性物質，使氣體脫離基片，抽離真空管道。

因為真空等離子體清洗過程需要治療,通常是在線或批量生產,所以,當等離子體清洗設備引入到生產線,我們必須考慮到清洗工件的存儲和傳輸,尤其是當工件體積更大,更重要的是,數量這個問題應該加以考慮。綜上所述，等離子體清洗技術適用于清洗物體表面的油、水和顆粒，有利于“快速”在線或批量清洗。。

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