它的控制器分為兩個部分：1）主機電源：有三種處理器主頻，電暈機一般開多少功率分別對應40kHz、13.56MHz和2.45GHz，其中13.56MHz需要主機功率匹配器。2）系統控制部分：分為按鈕控制（半自動、全自動）、電腦控制、PLC（液晶觸摸屏控制）三大類2.真空室。真空室主要分為兩種材料：不銹鋼真空室。2）石英腔。3.真空泵。真空泵分為兩類：1）干燥泵。2）油泵。

（2）氣體類型：待處理對象的襯底及其表面污染物種類繁多，電暈機一開電源就報警等離子體處理器在不同氣體放電中產生的等離子體清洗速度和清洗結果相差甚遠。因此，應有針對性地選擇等離子體的工作氣體。例如，可以選擇氧等離子體去除物體表面的油，選擇氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。（3）放電功率：增加放電功率可提高等離子體密度，增加（活）粒子能量，改善清洗結果。例如，氧等離子體的密度受放電功率的影響很大。

第三，電暈機一般開多少功率與其他等離子體清洗設備相比，常壓等離子體清洗設備的清洗成本更低，因為清洗條件下所需真空度僅為PA，不僅清洗條件簡單令人滿意，而且清洗過程中不需要昂貴的有機溶劑，所以整個清洗過程的成本降低了，但清洗功率仍然很高，只需要幾分鐘就能完成清洗。第三，目標導向也是大氣等離子體清洗設備的一大優勢。

提高等離子體的射頻功率就是提高等離子體的離子能量以加強清洗強度。離子能量是活性反應離子做物理功的能力。射頻功率的設置主要實現與清洗時間的動態平衡。增加射頻功率可以適當減少處理時間，電暈機一般開多少功率但會導致反應室內溫度略有升高，因此需要考慮清洗時間和射頻功率。等離子清洗后，測試工件芯片的接觸角。

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因此，從能源效率的角度出發，應選擇適當的能源密度。N2加入對等離子體中CH轉化率的影響等離子體：隨著原料氣中N2濃度的增加，CH4轉化率增加，說明惰性氣體N2有。有利于CH4轉化。C2烴產率隨N2加入量的增加略有增加，反應器壁積炭量隨N2加入量的增加略有減少。但與H2對甲烷脫氫偶聯反應的影響相比，在相同實驗條件下，C2烴產率較低，積炭量較多。

（2）有些分子受高能電子碰撞刺激，原子鍵斷裂形成小的碎片基團和原子。(3)-O、-OH、-HO2與原子、有機分子、破碎基團等自由基反應。其中一些被氧化分解為CO、CO2和H2O等惡臭成分。

低溫等離子體的出現解決了人們面臨的許多難題，為人們的生活做出了巨大貢獻。。太陽給我們的地球帶來了一切，給我們光和熱，給我們顏色，給我們氧氣和光合作用，如果沒有太陽，我們的地球就會陷入黑暗，一切都會失去光澤，甚至連我們基本的氧氣都得不到提供，植物也會失去光合作用，所以太陽對我們的重要性是難以想象的。

聚合物表面改性可以改變材料表面的化學性質，但不會改變材料的整體性能。4.聚合物表面涂層通過工藝氣體聚合在材料基層表面形成等離子體涂層形成一層薄的等離子涂層。如果所使用的生產氣體由復合分子組成，如甲烷、四氟化物和碳，它們將在等離子體中分解形成自由的功能單體，這些單體將鍵合在聚合物表面，并重新結合以覆蓋聚合物表面。這種聚合物表面涂層能明顯改變表面的滲透率和摩擦力。

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