干法蝕刻加工設備包括反應室、電源、真空等部件。工件被送到反應室，橡膠與簾子布的附著力不好氣體被引入等離子體并進行交換。等離子體蝕刻工藝本質上是一種主動等離子體工藝。最近，反應室中出現了架子的形狀。這允許用戶靈活移動以配置適當的等離子體蝕刻方法（反應等離子體（RIE）、下游等離子體（DOWNSTREAM）、直接等離子體（DIRECTIONPLASMA））。

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O形圈可出示足夠的密封預緊力，橡膠與簾子布的附著力不好并賠償PTFE環的損壞。 O型密封圈要害用以真空等離子清潔器的真空腔與其他構件相接的真空等離子清潔器中，并具有密封成效，比方真空腔與真空門中心的密封，入料電級 和真空腔中心的密封及其真空腔和真空管路中心的密封等。 2.真空等離子清潔器上使用的管道支架密封件 管路支撐點密封件的要害優勢是安裝比較簡單快捷，不用使用一切專用工具。 密封特性比較好。

還可以對膜的反面進行處理，橡膠與簾子布附著力有時根據工藝要求可以避免。另外，經電暈處理后獲得的表面張力不能長期保持穩定，處理后的產品往往只能存放有限的時間。4、常壓等離子處理技術：常壓等離子處理機技術是在大氣壓條件下產生的等離子體，常壓型等離子體處理技術成本低，性能優良，可作為真空等離子體和電暈等離子體的工藝替代和工藝改進，得到廣泛應用。

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這些活性粒子可以與表面材料發生反應，反應過程如下：電離-氣體分子-激發-激發態分子-清洗-活化表面等離子體產生的原理是對一組電極施加射頻電壓（頻率約為幾十兆赫），在電極之間形成高頻交流電場。在交變電場的激發下，該區域的氣體產生等離子體。活性等離子體在清洗后的材料表面轟擊反應，使表面材料變成顆粒和氣體物質，再通過真空放電達到清洗的目的。工藝1：去除有機化合物首先，利用等離子體原理激活氣體分子。

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