40kHz的自偏壓約1000V，防腐涂料厚度及附著力試驗13.56MHz的自偏壓約250V，20MHz的自偏壓低。這三種激勵頻率系統是不同的。 40kHz 的反應是物理反應 13.56MHz 的反應既是物理反應又是化學反應。在20MHz，有物理反應，但更重要的反應是化學反應。必須使用 13.56 MHz 激活（化學化）和修改材料。 20兆赫。

ICP刻蝕輝光放電產生的活性所產生的活性粒子擴散到襯底表面，防腐涂料厚度及附著力試驗發生化學反應，會產生一些不揮發的產物，來不及在襯底表面解吸沉積。此外，一些離子對襯底產生物理轟擊撞擊破壞表面晶格陣列，導致基材表面出現孔洞和坑洞，造成材料表面質量的下降。同時，由于硅和碳化硅的存在，使得原襯底表面的結構不均勻。

它由離子體、電子、自由激進分子、光子和中性顆粒組成，防腐涂料厚度及附著力試驗是物質的第四狀態。電漿清洗是利用電漿通過化學或物理作用對工件表面進行分子水平處理，清掉污垢，提高表面性能的工藝過程。針對不同污染物，應采取不同的清洗工藝。按所選工藝氣體的不同，可分為化學清洗、物理清洗和物理化學清洗。目前，有四種激勵電源頻率，即DC、低頻40KHz、射頻13.56MHz和本文介紹的微波2.45GHz。

正常排氣時間約為幾分鐘。 2) 將 PLASMA 等離子清洗氣體引入真空室，防腐涂料附著力不好以穩定室內壓力。根據清潔劑的不同，可以使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳和其他氣體。 3）當在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓時，氣體分解，產生輝光放電，產生等離子體，真空室內產生的等離子體形成工件。 .它將被處理并開始清潔操作。處理時間從幾十秒到幾分鐘不等。 4) 清潔后，關閉電源，將真空泵中的氣體和汽化污垢排出。

防腐涂料厚度及附著力試驗

廢氣處理設備低溫等離子廢氣處理設備利用離子、原子、自由基等各種電子和活性等離子體，將廢氣中的污染物分解凈化廢氣。低溫等離子廢氣處理設備利用廢氣中的電子、各種離子、原子、自由基等活性等離子體和污染物，在不添加物質的情況下，適應性強，消耗低，高效凈化節能。由于這種性質，廢氣的分子在很短的時間內分解，然后發生各種反應，達到分解廢氣的目的。冷等離子體是繼固態、液態和氣態之后的第四種物質狀態。

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