產生揮發性物質并用真空泵將其吸走。揮發物用于清潔目的。然而，蠟附著力促進劑“表面清洗”是等離子清洗機技術的中心，這也是很多企業選擇等離子清洗機的重點。 “表面清洗”與等離子設備和等離子表面處理設備的名稱密切相關。簡單來說，表面清潔就是在被加工材料表面形成一層新的氧化膜，同時形成無數肉眼看不見的小孔。這樣，被加工材料的表面積顯著增加，間接增加了材料表面的粘合性、相容性、潤濕性、分散性等。

plasma等離子體與催化劑共同作用下CO2氧化CH制C2烴反應研究結果表明：La203/Y-Al203可顯著提高C2烴產物選擇性，蠟附著力促進劑在相同等離子體條件下，其C2烴產物選擇性比Y-Al203高出40個百分點，因此C2烴產物收率高；負載型金屬催化劑Pd/Y-Al203雖然對C2烴產物收率影響不大，但可明顯改變C2烴產物分布，微負載量的Pd可明顯提高C2H2在C2烴產物中摩爾分數。

等離子清洗機又稱等離子蝕刻機、等離子打膠機、等離子活化劑、等離子清洗機、等離子表面處理器、等離子清洗系統等。等離子處理器廣泛應用于等離子清洗、等離子蝕刻、等離子晶片脫膠、等離子鍍膜、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等領域。在IC封裝過程中，蠟附著力促進劑采用等離子清洗機，可以有效去除材料表面的有機殘留物、顆粒污染、氧化物薄層，提高工件表面活性，避免焊縫層和虛擬焊接。。

但過孔因為阻抗不連續而造成的反射其實是微乎其微的，蠟附著力促進劑其反射系數僅為：（44-50）/（44+50）=0.06過孔產生的問題更多的集中于寄生電容和電感的影響。

氧化聚乙烯蠟附著力問題

在這種情況下，更換相序保護繼電器。 3、真空等離子清洗機供氣壓力過低。檢查氣體是否打開或關閉。 4、真空等離子清洗機二次供氣壓力過低。檢查氣體是否打開或關閉。第三點和第四點是氣路控制系統的警報。如果您收到此警報，請確保打開和關閉氣體。如果氣體沒有問題，檢查設備的減壓閥、氣路電磁閥、流量計是否正常。檢查電路是否斷開和短路。 5. 如果真空等離子清洗機的排氣壓力過低，請檢查氣體是否打開并排出。

本實用新型可借助等離子表面清洗機技術進行表面（活性）改性噴涂處理，提高產品質量，解決長期困擾的問題。該自動等離子體設備不能區分待處理靶材的材料類型，對半導體材料和大多數高聚物具有有效的處理（效應）效果，并能保持完整性散裝、局部和復雜結構的清洗。清洗過程可實現自動化、智能化，并可配備高精度控制系統，精確控制時間。

利用等離子處理設備可以降低其成本，另外對產品本身也沒有任何的影響，不會影響其性能。用于制造隱形眼鏡的玻璃模具帶有成型時產生的聚合物污染層（例如CR-39 或PC）或脫模劑。通常用濕法清洗來洗掉這些殘余物，但隨之而來的不完全的噴淋、水痕、建造清洗槽等會影響表面的完美性，而用等離子體可以很好地清潔這些鏡片，并提升產品的性能，以達到最好的效果。。

如果疊層產品不能用砂輪打磨，采用切齒線的方法，或者在疊層時讓開（尺寸較大的產品實用，小包裝產品不能用這種方法），再配合優質膠水，效果更好，但不是最好的方法。

氧化聚乙烯蠟附著力問題

大陸的。等離子設備是從海外引進的，什么蠟附著力最好據說最初是日本人發明的，但最初是為了解決半導體的問題而開發的，現在已經在各個領域得到應用。 除了等離子機，解決材料粘合強度的方法還有很多，比如化學藥水、噴砂、直接燃燒等。這也是一個很好的方法，但是對每種材料的要求是不同的。等離子機已用于制造各種電子元件。如果手機攝像頭和很多精密配件耦合不緊密，最好的解決方案就是等離子機。