等離子清洗機是干法清洗可控性強，干法刻蝕機器一致性好，不僅能去除光阻有機物，還能活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面的侵入性，等離子清洗機可應用于半導體、微納電子、MEMS、PCB、光學、光學制造、汽車電子、醫療電子、生命科學、食品工業等領域，可對各種材料表面進行有機物去除、清洗、化學改性或涂層沉積等。等離子清洗機又稱等離子蝕刻機、等離子打膠機、等離子活化劑、等離子清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。

其中，干法刻蝕機對身體危害氧等離子體表面處理干法處理通常采用多種電離氣體等離子體對ITO表面進行清洗，以去除其表面污染，改善其表面形貌。在濕法處理中，通過不同的有機溶劑將新的基團結合在ITO表面，達到表面改性的目的。

2 .采用全干法處理(干法)，干法刻蝕機器不含溶解劑和水，幾乎無污染，從而節約能源，降低(低)成本。3 .起效時間短，反應速率高，加工對象廣，可顯著提高產品質量。4 .工藝簡單，操作方便，生產可控性好，產品一致性好屬于健康工序，對操作者身體沒有傷害。

整個清洗過程可以在幾分鐘內完成,所以它有高收益的特點,易于使用的數控技術,自動化程度高,高精度控制裝置,高精度時間控制;正確的等離子體清洗不會產生表面損傷層,表面質量得到保證。由于是在真空中進行，干法刻蝕機對身體危害不污染環境，保證清洗表面不受二次污染。等離子體工藝是一種干法工藝，與濕法工藝相比，它有許多優點，這是由等離子體本身的特性決定的。

干法刻蝕機

等離子清洗機的工作原理是等離子是物質存在的一種狀態等離子清洗機是一種干法清洗，主要清洗很小的氧化物和污染物。它是使用工作氣體的作用下電磁場刺激等離子體和物體表面物理和化學反應,從而達到清洗的目的,和超聲波清洗機是一種濕法凈化,主要清潔是非常明顯的灰塵和污染物,屬于一個粗糙的清潔。它是利用液體(水或溶劑)在超聲波振動的作用下對物體進行清洗，從而達到清洗的目的。

在對聚四氟乙烯材料進行活性(化學)處理之前，化學沉淀銅，有很多方法，但一般來說，可以保證產品質量。適用于大批量生產的有:(一)化學處理:在溶液的非水溶劑四氫呋喃或乙二醇二甲醚等,金屬鈉與萘反應生成萘-鈉復雜,這損害了聚四氟乙烯在孔隙和表面原子達到潤濕孔壁的目的。(2)本發明專利技術的等離子體活化處理方法操作簡單，處理質量穩定可靠，適用于大批量生產，采用等離子體干法制備。

因此，可以對金屬材料進行表面改性，使材料的金屬性能與表面的生物活性更好地結合為生物材料的應用奠定了良好的基礎。低溫等離子體技術是一種干法工藝，具有操作簡單、易于控制、加工時間短、無環境污染等優點，且只涉及材料表面數百納米，對基體性能不產生影響。金屬生物材料的表面改性開辟了一條新的途徑，在生物醫學領域受到越來越多的關注。醫用生物耗材。如酶板、細菌計數培養皿、細胞培養皿、組織培養皿、培養瓶的親水性處理。

為了避免污垢對芯片加工性能的嚴重影響和缺陷，半導體單晶硅片在制造過程中需要經歷多個表面清洗步驟，等離子清洗機是單晶硅片光刻技術理想的清洗設備。單晶硅片清洗一般分為濕法清洗和干法清洗。等離子清洗機屬于干洗，是清洗單晶硅的主要方式之一。等離子清洗機主要用于去除單晶硅表面肉眼看不見的表面污垢。對于單晶硅片這類高科技產品，對顆粒的要求非常高，一旦存在過量的顆粒可能會導致單晶硅片出現不可修復的缺陷。

干法刻蝕機對身體危害

在對聚四氟乙烯材料進行活化處理之前，干法刻蝕機對身體危害有很多方法可以采用，但從整體上看，可以保證產品質量，A)化學加工方法:金屬鈉與萘在非水溶劑如四氫呋喃或乙二醇二甲醚的溶液中反應，形成萘-鈉絡合物。萘鈉處理液可以腐蝕孔隙中的聚四氟乙烯表面原子，從而達到潤濕孔壁的目的。b)等離子體處理法:該工藝操作簡單，處理質量穩定可靠，適合大批量生產，采用等離子體干法工藝生產。