等離子體中的高能反應基團與表面碰撞，雨天附著力變小啥意思引起濺射、熱蒸發或光解。等離子專用清洗工藝主要是基于等離子濺射和蝕刻所帶來的物理和化學變化。在物理濺射過程中，等離子體中高能離子的脈沖表面撞擊會導致表面原子的位移，在某些情況下，會導致表面下原子的位移，因此物理濺射不是選擇性的。在化學蝕刻過程中，等離子體中的反應基團可以與表面原子和分子發生反應，并抽出產生的揮發物。

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圖3 常用的CCP源室結構在 1MHz 和 MHz 之間的頻率下，雨天附著力怎么變化自由電子可以隨著電場的變化而獲得能量，而離子通常不會隨著電場的變化而移動。他們沉重的質量。電容耦合等離子體的放電壓力通常在幾毫托到幾百毫托之間。由于電子的質量遠小于離子的質量，因此電子可以傳播得更遠并與氣體或墻壁發生碰撞。在電離中。更多的電子和離子。電子在壁周圍釋放，只留下龐大的離子，但整個腔室必須是電中性的。

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下游等離子體是一種較弱的工藝，適用于去除10至50埃厚的薄層。在輻射區域或等離子體中，存在對工件的損傷。目前，還沒有證據表明這種擔憂。這似乎只可能發生在重復的高輻射區域和延長60-120分鐘的處理時間。通常，這種情況只發生在大薄片，而不會發生在短期清洗中。。

低溫等離子體自由基化學反應在多晶硅工業中的應用:化學反應，即原子或自由基水平的復合，需要外界提供必要的活化能。與等離子體相比，大多數工業反應材料是濃縮的。所涉及的氣體大多濃度高、貫穿度高，很難將較大的激發能連續地傳遞到反應體系中，一些需要極大活化能的化學反應在常規技術條件下很難實現。。

等離子設備用于去除外層的接觸污漬，減少濺射留下的殘留液體，減少外層的吸附。一般的光彩在電清洗中，材料被置于電離蒸汽中，導致低能離子與材料外層的電子器件發生碰撞。沖擊能量取決于功率、射頻或直流電流放電特性，以及被清潔材料的特性（如絕緣或導電性）。例如O2放電產生的離子和電子器件不僅會釋放雜質，還會在有機物外層產生揮發性物質，沖擊材料外層以達到清洗的目的。

然后將產品一起通電觀察腐蝕情況(車間溫度控制范圍:22℃+/-6℃，濕度控制范圍:55%+/-15%)。A產品等離子清洗，B產品未清洗。連續上電200小時測試結果:A產品上電71.5h缺A線，上電77H缺1線;B產品4.5h缺4線。從以上實驗數據可以看出:1。

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