1.目前工業上有哪些類型的等離子體表面處理工藝？低溫等離子體設備是目前常用的設計方案，膜達因值測哪一面提高表面附著力（表面自由能）的成熟方案有以下幾種：電暈（處理產品有局限性，使用時會產生大量臭氧，通常用于薄膜行業）、化學浸漬（環保）、超聲波清洗（超聲波清洗的主要作用是清洗表面污漬、灰塵、殘留油脂等外界污染）、低溫等離子體設備（通過物理和化學方法活化腐蝕表面，大大提高材料的表面自由能，表面殘留雜質也有一定的清洗能力，適用范圍廣，金屬、玻璃、陶瓷等材料處理效果優異）。

傳統的清洗方法不能去除材料表面的所有薄膜，薄膜達因值能用多少次留下很薄的雜質層。等離子清洗機是利用等離子轟擊材料表面，以溫和、徹底的方式清洗表面。等離子墊圈去除因用戶戶外接觸而在表面形成的隱形油膜、微小銹斑等類型。此外，等離子清洗機不會在污垢表面留下殘渣。等離子清洗機可以處理多種材料：包括塑料、金屬、汽車制造、紡織行業、電子行業、半導體封裝行業、LED行業甚至生物領域。

在噴涂、印刷、植絨前活化化妝盒、香水瓶、漁具、高爾夫球、風管等塑料制品。濕膠系統在制造過程中代替塑料瓶貼標前的熱熔和擴散PP薄膜的單面預處理。線。

其主要原理步驟是：首先將待清洗工件送入真空室固定，膜達因值測哪一面啟動真空泵等裝置，抽真空至10Pa左右；然后將用于等離子體清洗的氣體引入真空室（根據清洗材料的不同選擇不同的氣體，如氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等），壓力保持在Pa左右；在真空室內電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體擊穿，通過輝光放電使氣體電離，產生等離子體等離子體；真空室內產生的等離子體完全覆蓋被清洗工件后，清洗工作開始，清洗過程持續數十秒至數分鐘。

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其基本工作原理是在真空狀態下，等離子體作用可以在控制和定性的方法下使氣體電離，工作腔通過真空泵抽真空，達到30-40Pa的真空度，再在高頻發生器的作用下使氣體電離，形成等離子體（物質第四態）。其顯著特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發出從藍色到深紫色的有色可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高活性顆粒與處理后的表面相互作用，產生親水性、拒水性、低摩擦力、高清潔度、活化和刻蝕等各種表面改性。

為了戰勝上訴的缺陷，研究人員開發了低壓等離子體，當氣壓低于10PA時，就不會發生反常輝光放電了。經過射頻激起微波，或從熱絲上釋放出的高能電子沖擊電離等方法都能夠發生等離子體，這些低壓等離子體充滿整個處理空間，其間包含了很多的活性原子，如此會提高滲氮功率。在射頻等離子體滲氮中，等離子體的發生和基底偏壓是分隔操控的，因而能夠分別操控離子能量和基底外表的通量。由于作業氣壓比較低，耗費的氣量也相應下降。

要清潔過濾器，請執行以下步驟： 1. 拆下四個螺絲，拆下過濾風扇。 2.用壓縮空氣吹掉過濾器。如果過濾器很臟，應先用肥皂水清洗，然后再用壓縮空氣清洗。 3.更換墊圈和過濾器，確保螺絲孔插座和屏幕突出的一面朝外。 （過濾器需要每月檢查和清潔一次。此過程可能需要大約 20 分鐘。請聯系 Plasma Systems 客戶服務以獲得技術幫助或更換零件）。

為了解決這一技術上的難題，就要設法改變PTFE（聚四氟乙烯）與金屬粘接的表面性能，而不能影響另一面的性能。工業中用萊鈉溶液處理雖然能在一定程度上提高粘接效果，但是卻改變了原有PTFE的性能。經實驗證明，用等離子體轟擊需粘接的PTFE表面后，其表面活性明顯增強，與金屬之間的粘接牢固可靠，滿足了工藝的要求，而另一面保持原有的性能，其應用也越來越被廣泛認同。。

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工業中用萊鈉溶液處理雖然能在一定程序上提高粘接效果，膜達因值測哪一面但是卻改變了原有PTFE的性能。用等離子清洗機轟擊需粘接的PTFE表面后，其表面活性明顯增強，與金屬之間的粘接牢固可靠，滿足了工藝的要求，而另一面保持原有的性能。 等離子清洗機（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。

等離子清洗是一種干洗方法，薄膜達因值能用多少次主要依靠活性離子（活化）去除表面污漬。等離子處理器能有效清除電池內的污垢和灰塵，提前為電池焊接做好準備，減少次品。為了防止電池事故，通常需要用外膠處理電芯，以起到絕緣作用，防止停止短路，保護線路，防止劃傷。保溫板、端板清洗，表面臟污粗糙，提高粘接強度。等離子體處理器產生的等離子體活性粒子具有以下功能：改善結合、粘接、焊接、涂層、脫膠等。