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單晶圓清洗設備一般是指使用旋轉噴淋對單晶圓進行化學噴淋清洗的設備。與自動化清洗站相比，鍍層附著力最大能做到多少清洗效率較低，生產能力較低，但對工藝環境的控制能力要高得多。并去除顆粒。自動化工作站，也稱為罐式自動清洗機，是指在化學浴中同時清洗多個晶圓的設備。以目前的（頂級）技術，很難滿足整個工藝的參數要求。此外，由于同時清洗多個晶圓，自動化清洗站無法避免相互污染的弊端。

同時，鍍層附著力最大能做到多少表面處理也是非常有益的。隨著高科技產業的快速發展，真空等離子體設備制造商的等離子體清洗技術已廣泛應用于電子、半導體、光電等高科技領域。以下是真空等離子體設備制造商處理金屬鋁的例子：經真空等離子體設備表面處理后，接觸角由開始的87.7°下降到19.1°，大大改善了金屬鋁的表面潤濕性。。真空等離子體設備清洗技術在醫療行業中的應用；（1）靜脈輸液器在使用過程中，拔出時會出現針座與針管之間脫出的現象。

而等離子體表面處理是利用非聚合性無機氣體(Ar2、N2、H2、02等)的等離子體進行表面反應，鍍層附著力最大能做到多少通過表面反應在表面引入特定官能團，產生表面侵蝕，形成交聯結構層或生成表面自由基，在經等離子體活(化)而成的表面自由基位置，能進一步反應產生特定官能團，如氫過氧化物。較為普遍的是在高分子材料表面導人含氧官能團。如-0Η、-00Η等。還有人在材料表面引入了胺基。

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  等離子技術是一新興的領域，該領域結合等離子物理、等離子化學和氣固相界面的化學反應，此為典型的高科技產業，需跨多種領域，包括化工、材料和電機，因此將極具挑戰性，也充滿機會，由于半導體和光電材料在未來得快速成長，此方面應用需求將越來越大。。

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