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深圳市金徠技術有限公司

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化學反應室的氣體電離是指離子、電子、自由基等活性物質的等離子體,ICplasma清潔機器在介質外表通過擴散吸收,與介質外表的原子發生化學反應,形成揮發性物質。此外,高能離子在一定的壓力下對介質表面進行物理轟擊和刻蝕,去除再沉積的化學反應產物和聚合物。電介質層的蝕刻是通過化學和物理作用完成的。蝕刻是晶圓制造過程中的重要環節,也是微電子IC制造過程和微納米制造過程中的重要環節。

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在倒裝IC芯片中,ICplasma清潔對IC和IC載體的處理不僅可以得到干凈的點焊接觸面,而且大大提高了點焊接觸面的化學活化,有效地避免了虛擬焊接,有效地減少了空隙,提高了點焊質量。它也可以增加填充物的外緣的高度和兼容性問題,增加集成電路芯片封裝的機械強度,減少內部產生剪切力之間的表面由于熱膨脹系數不同的材料,并提高產品的安全性和生活。。

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