化學處理法制備的萘鈉處理液不能生產，活化ptfe表面毒素含量大，保質期短，因此需要根據生產情況進行配制，安全性高。因此，等離子處理是目前活化PTFE表面的主流方法，使用方便，可顯著減少廢水處理量。低溫等離子發生器的加工工藝為干法，與濕法相比有很多優點，而這些優點取決于低溫等離子發生器本身的特性。高壓電離等離子體具有高活性，不斷與材料表面的原子發生反應，使表面材料不斷受到氣體的激發和揮發，達到清洗的目的。
b) 低溫等離子發生器的處理方法：該工藝使用方便，活化ptfe粘接表面處理質量穩定、可靠，適用于等離子干式墻制造。化學處理法制備的萘鈉處理液不能生產，毒素含量大，保質期短，因此需要根據生產情況進行配制，安全性高。因此，等離子處理是目前活化PTFE表面的主流方法，使用方便，可顯著減少廢水處理量。冷等離子體發生器的加工工藝是干法工藝，相對于濕法工藝有很多優點，這些優點取決于冷等離子體發生器本身的特性。
在PTFE材料化學沉積銅前的活化處理中，活化ptfe表面可以采用的方法有很多，但綜合來看，既能保證產品質量又適合批量生產的目的有兩個：等離子體處理方法：該工藝操作簡單，處理質量穩定可靠，適合批量生產，采用等離子干法生產。而化學處理法制備的鈉萘處理液合成困難，毒性大，保質期短。需要根據生產情況進行部署，安全要求較高。因此，目前多采用等離子體處理來活化PTFE表面。易于操作，而且并且大大減少了廢水的處理。
隨著智能手機的快速發展，活化ptfe粘接表面更新周期越來越短，人們對手機拍攝圖片的質量要求也越來越高。工藝應用：采用COB/COG/COF工藝制作的手機攝像模組已顯著應用于千萬像素級手機。等離子體清洗機在這些過程中扮演著越來越重要的角色。去除濾光片、支架、電路板墊表面的有機污染物，對各...
