在真空等離子設備的清洗過程中，真空活化機除了形成低溫等離子體的化學變化外，低溫等離子體還與原料表面形成物理反應。低溫等離子體粒子可以將原料表面或原料附著表面的原子敲掉，有利于清洗蝕刻反應。
它們也可以被原子結構的力學所操縱表面基板的損壞。這些表面基團后來可能參與表面反應和成鍵。真空等離子體處理是一種低溫工藝，真空活化機作用一般為40~120C，可以避免熱損傷。這個過程產生一個熱自由表面激活反應，它不會在大氣壓力下發生，這取決于分子的化學成分。這些獨特的特性可以為材料和產品開辟新的可能性。等離子體處理是在一個受控的環境中，在一個密封的腔室中進行，引入選定的氣體，以保持腔室處于中等真空，通常為13至65Nm2。
研究了氧等離子體和空氣等離子體(頻率13.56mhz，真空活化機作用真空度1TORr，充放電輸出功率100 W)處理棉織物芯吸收性能與工藝標準的關系。對棉織物進行大氣等離子清洗60秒，氧等離子處理30秒。棉織物的脫蠟、脫漿效果(果)達到了正常沸騰漂白的程度。
其基本原理是在真空低壓下，真空活化機ICP射頻電源向環形耦合線圈產生有一定份額的射頻輸出通過耦合輝光放電腐蝕氣體混合,高密度等離子體,我電極射頻等離子體的作用下在襯底表面進行炮擊,襯底圖形區域半導體材料的化學鍵被中斷,和蝕刻氣體生成的揮發性物質,以氣體的形式從襯底,遠離真空管。蝕刻機與光刻機的區別蝕刻比光刻容易。光刻機打印圖片，蝕刻機從打印的圖片上切下有(或沒有)圖片的部分，剩下的部分留下。。
真空活化機
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