Liu選用流柱放電形式，表面改性二氧化硅那家賣以He為平衡氣(占總氣體流量的60%~80%)，在必定的放電功率下，根據二氧化碳與CH4摩爾比差異，甲烷轉化率介于20%~80%，二氧化碳轉化率介于8%~49%，C2烴收率介于20%~45%。在電漿清洗機作用下直接轉化CH4和二氧化碳，一步制取C2烴，反應主要C烴產物為C2H2和C2H6，等離子體功率增加有利于生成C2H2。
當能量密度高于1500kJ/mol時，二氧化硅表面疏水改性體系中電子的平均能量增加，大部分電子的能量逐漸接近二氧化碳C-O鍵的裂解能，CO2轉化率迅速增加。同時，CH4轉化率隨能量密度的增加呈對數增加，CO2轉化率隨能量密度的增加呈線性增加。這可能與甲烷和二氧化碳在等離子體等離子體作用下的裂解特性有關。
所有鏈接，表面改性二氧化硅那家賣包括尖端、切肉刀和金線，都可能導致污染。如果清洗過程不及時，直接鍵會出現虛焊、焊錫脫落、粘合強度降低等缺陷。當使用 AR 和 H2 的混合物進行在線等離子清洗數十秒時，污染物會發生反應，產生揮發性二氧化碳和水。較短的清潔時間可去除污染物，而不會損壞鍵合區域周圍的鈍化層。因此，在線等離子清洗有效去除（去除）結區的污染物，提高了結區的結性能，增加了結強度，顯著降低（降低）結故障率。
等離子體表面處理機采用氧等離子體或氬等離子體對基材進行處理，二氧化硅表面疏水改性不僅能清潔結合表面，還能利用等離子體的高能量激活表面，提高兩種材料的結合強度。經等離子表面處理器清洗后，有機玻璃鍍金涂層材料附著力更高，性能更好，使用價值提高。本文來自北京，請注明出處。。如需處理，請聯系專業人員。實際搬運過程復雜多變。等離子體表面處理器電源偏差的原因如下:1、真空室極板正負插頭之間的現象。
