反應室由真空室和真空系統、提供不同種類和流量氣體的氣體系統、射頻電源及其調節匹配電路系統組成。電暈刻蝕的原理可以概括為以下幾個步驟：1.低壓下，電暈表面處理原理圖解在射頻功率激發下，反應氣體電離形成電暈。電暈是由帶電的電子和離子組成的。

鑒于此，電暈表面處理原理圖解本文介紹了低壓電暈清洗技術的原理和特點，通過管座芯片與電容柱鍵合后的接觸角實驗和剪切推球實驗，分析了低壓電暈清洗技術通過對襯底表面進行改性來提高焊球與襯底結合的工作原理。實驗結果表明，管座清洗能有效去除鍵合區表面的各種污染物，改善鍵合區表面的潤濕性和附著力，進一步提高半導體的可靠性。金屬材料之間的粘接技術廣泛應用于航空航天、包裝、建筑、傳感器等行業。

空氣電暈的應用原理目前，電暈表面處理原理圖解科學技術上一般通過電離空氣得到電暈。由于電暈一般具有1-15eV的能量，當它與其他分子碰撞時，很容易打開其他分子的化學鍵，形成新的極性基團，從而大大提高在材料表面的附著力。利用電暈的這一特性，我們將能夠開發許多聚合物表面改性的技術應用。

通過電暈的表面處理，電暈表面處理原理可以提高材料表面的潤濕能力，從而可以對各種材料進行涂層、電鍍等，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油污或油脂；采用電暈，除產品表面達到可靠。持久的粘附作用，還能賦予材料表面新的實用性能，如抗靜電、親水性、染色（高分子材料）耐磨、耐蝕（金屬材料）；清洗、蝕刻、脫膠等（半導體材料）；光吸收。電暈還可以結合兩種不同的材料。。

電暈表面處理原理圖解

-常壓電暈關鍵性能指標：1.噴涂的電暈流中性、不帶電，可對各種高分子材料、金屬材料、半導體材料、塑料、pcb電路板、印刷電路板進行表面處理。2.經低溫電暈設備加工后，去除碳化氫污垢，如油脂、輔助添加劑等，有利于粘結。性能指標耐用穩定，維護時間長。3.溫度低，適用于表面材料對環境溫度敏感的產品。4.無需箱體，可同時在生產線組裝，在線加工。

電暈處理器廣泛應用于電暈清洗、電暈刻蝕、電暈晶片脫膠、電暈鍍膜、電暈灰化、電暈活化和電暈表面處理等領域。通過電暈的表面處理，可以提高材料表面的潤濕能力，對各種材料進行涂層和電鍍，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

3.1表面有機層電暈灰化襯底表面進行化學轟擊如下圖所示：在真空瞬時高溫條件下，部分污染物蒸發，污染物在高能離子沖擊下被真空粉碎攜出。電路板在生產過程中使用時，不可避免地會在基板表面沾染一些汗漬、油漬等污染物。有些污染物使用普通電路板脫脂劑很難去除，但電暈處理可以很好地達到去除這些有機污染物的效果。3.2襯底表面電暈刻蝕在電暈刻蝕過程中，被刻蝕物體會在處理氣體的作用下轉變為氣相。

利用電暈發生器產生的高壓交變電場Ar、H2、N2、O2、CF4等工藝氣體經激發振蕩形成高反應性或高能量的電暈，再與有機污染物、微粒污染物反應或碰撞形成揮發性物質，通過工作氣流和真空泵去除，達到表面清潔、活化、刻蝕等目的。電暈清洗并不破壞被處理材料或制品的固有特性，只是改變表面納米級厚度、被清洗材料或制品表面污染物的去除，以及分子鍵打開后極其輕微的結構變化。

電暈表面處理原理圖解