等離子體表面處理體是一種物質(zhì)存在狀態(tài)，親水性物質(zhì)結(jié)構(gòu)特征通常物質(zhì)以固體、液體、氣體三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下有四種狀態(tài)存在，如地球大氣中的電離層中的物質(zhì)。下列物質(zhì)以等離子體狀態(tài)存在:高速運動的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、自由基;電離的原子和分子;未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)整體上保持電中性。在真空室中，射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序等離子體，通過等離子轟擊清洗產(chǎn)品表面。達到清洗的目的。

plasma是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，親水性物質(zhì)結(jié)構(gòu)特征也稱為第四狀態(tài)(通常物質(zhì)是固體、液體、氣態(tài)三種狀態(tài))，是利用高壓電源在一定壓力情況下對氣體增加足以能量而產(chǎn)生的。清潔狀態(tài)中有下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子、處于活躍狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基)、離子化原子、分子、未反應(yīng)分子、原子等，但物質(zhì)總體上仍然保持電中性。

等離子體中存在下列物質(zhì)，親水性物質(zhì)結(jié)構(gòu)特征并產(chǎn)生電子、中性原子、處于快動過渡態(tài)的分子、處于激發(fā)態(tài)的原子團（自由基）以及在解離反應(yīng)過程中電離的原子、分子和分子。越來越多的紫外線、未反應(yīng)的分子、原子等，但材料保持完全電中性。 2.等離子類型低溫等離子和高溫等離子根據(jù)等離子體的溫度，可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種。在等離子體中，粒子的溫度實際上是不同的。比溫度與粒子的動能，即它們的運動速度和質(zhì)量有關(guān)。

低溫等離子體技術(shù)可以產(chǎn)生空氣中的負離子：在低溫等離子體中，親水性物質(zhì)結(jié)構(gòu)特征高能電子可使氣體分子如氧氮等帶電子，從而產(chǎn)生空氣負離子，這種負離子有“空氣維生素”、“長壽素”之稱，具有很好的健康效果，對人體和其它生物的生命活動有很大影響。低溫等離子體技術(shù)可以實現(xiàn)生物消殺的目的：低溫等離子體具有明顯的生物消殺作用。這種特征在疫情爆發(fā)時也得到證實和應(yīng)用。

親水性物質(zhì)結(jié)構(gòu)特征

等離子清洗工藝的選擇取決于后繼工藝對材料表面的要求、材料表面的原有特征、化學(xué)組成以及表面污染物性質(zhì)等等。通常應(yīng)用于等離子表面改性的氣體有氬氣、氧氣、氫氣、氮氣、四氟化碳及其混合氣體等等其主要應(yīng)用及選擇見表1。

表面活化、接枝聚合等材料表面相互作用改變了材料表面的形態(tài)特征和化學(xué)成分。等離子體是一個電中性基團，但它包含許多活性粒子，例如電子、離子、激發(fā)的分子原子、自由基和光子。它們的能量范圍是1-10 eV，這樣的能級就是能量范圍。由于纖維材料中有機分子結(jié)合能的變化，等離子體中的活性粒子與纖維材料表面發(fā)生解吸、濺射、激發(fā)和刻蝕等物理化學(xué)作用，以及交叉反應(yīng)等化學(xué)反應(yīng)。

等離子體是由正負粒子帶正電荷(包括正離子、負離子、電子、自由基和各種活躍的群體,等等),等于正負電荷的指控稱為等離子體,是除固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)物質(zhì)在第四狀態(tài)——等離子體狀態(tài)存在。

活性等離子對被清洗物進行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，從而達到清洗目的，實現(xiàn)分子水平的污染物去除（一般厚度為3～30nm），從而提高工件表面活性。被消除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應(yīng)不同的污染物，應(yīng)采用不同的清洗工藝，根據(jù)選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。

下列物質(zhì) 是親水性物質(zhì)

由于低溫等離子處理設(shè)備和催化劑的共同作用，下列物質(zhì) 是親水性物質(zhì)CH4和二氧化碳的復(fù)合現(xiàn)象：在低溫等離子處理設(shè)備的影響下二氧化碳氧化成CH4的轉(zhuǎn)化主要是由自由基引起的，目標物質(zhì)C2烴選擇性低。化學(xué)催化下的二氧化碳氧化CH4轉(zhuǎn)化現(xiàn)象對目標物質(zhì)具有較高的選擇性。例如，負載型鎳催化劑提供的目標物質(zhì)為合成氣(CO+H2)，以鑭系氧化物為催化劑的目標物質(zhì)為C2烴。