清洗和蝕刻：去除工件表面的看不見的有機污染物、表面吸附層和薄膜層。超精密清洗工藝可以解決工件表面的粘附問題。例如在清洗時，電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比工作氣體往往是氧氣，它通過加速電子與氧離子和自由基碰撞后被高度氧化。工作表面上的污垢，如油脂助焊劑、感光膜、脫模劑、沖頭油等很快被氧化成二氧化碳和水，用真空泵抽出，目的是清潔表面，提高潤濕性和附著力。冷等離子處理只涉及材料的表面，不影響材料的大部分性能。

甲烷轉化率從 43.4% 下降到 24%，二氧化硅清洗機但 C2 烴的收率從 13.4% 提高到 17.6%。 LA2O3 改善二氧化碳。轉化率，但 CO 產量降低：當 LA2O3 負載量從 2% 變化到 12% 時，CH4 轉化率和 C2 烴產率峰形略有變化，但對 CO2 轉化率和 CO 產率影響不大。

二氧化碳轉化順序如下： NI0 / Y-AL2O3> TIO2 / Y-AL2O3> CO2O3 / Y-AL2O3> NA2WO4 /Y-AL2O3 & ASYMP; FE2O3 / Y-AL2O3> RE2O7 / Y-AL2O3 & ASYMP; CR2O3 / Y-AL2O3> MN2O3 / Y-AL2O3 & ASYMP; MOO3 / Y-AL2O3> ZNO / Y-AL2O3。

清洗等離子處理設備的目的是去除靜電感應、灰塵和表面油性殘留物等污染物。等離子清洗機的精細加工可以完全清潔材料表面，二氧化硅清洗機即使是小顆粒。或者它被放置在表面的孔隙結構中。它被沖走了。等離子清洗機、精細清洗、高效活化等離子清洗機不僅可用于產品清洗，還可用于蝕刻工藝、灰化、表面活性刺激等一般工業生產行業。 等離子清洗機通常用于以下應用： 1。

二氧化硅清洗機

在真空室內，高頻電源在恒壓下產生高能混沌等離子體，等距子體撞擊待清潔物體表面。達到清潔的目的。在長期致力于等離子應用技術研究和設備開發的基礎上，我們充分借鑒歐美先進技術，通過與日本及海外知名研究機構的技術合作，開發出電容耦合。放電、電感耦合放電、遠程等離子放電等多種放電類型產品。特有的加工腔形狀和電極結構，可滿足薄膜、織物、零件、粉末、顆粒等各種形狀和材料的表面處理要求。

實際的電容器總是具有在低頻時不明顯的寄生電容，但在高頻時它會超過電容本身。從磁場能量變化的角度很容易理解，當電流變化時，磁場能量也會發生變化，但能量跳躍是不可能的，體現了電感的特性。電容電流的變化可以在一定程度上延遲，增加電感可以提高電容的充/放電阻抗，延長整個電源的響應時間。固有頻率點是區分諧振與電容或電感兼容性的分界點。

等離子清洗機的處理在微觀水平上提高了材料表面的活性，可以大大提高涂層效果。實驗表明，用等離子表面處理機對不同的材料進行處理需要選擇不同的工藝參數，才能達到更好的活化效果。。等離子技術在汽車工業中的應用 1.隨著汽車工業的發展，對點火線圈各方面的性能要求也越來越高。點火線圈可以增加輸出。最明顯的效果是在低速和中速行駛時增加扭矩。消除積碳，更好地保護發動機，延長發動機壽命。減少或消除發動機共振。

儀表板和控制板的涂層效果很差，不耐磨，可以用化學方法處理，使油漆容易脫落，但不僅改變了涂層的效果，而且儀表板等基材。它會改變性能并略微降低強度。今天，許多制造商使用等離子技術來處理這些基板。等離子沖擊提高了材料表面的微觀活性，可以大大提高涂層效果。實驗表明，需要選擇不同的工藝參數，用等離子清洗機處理不同的材料，才能達到更好的活化效果。

電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比

實驗表明，電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比等離子處理過的塑料件在硬盤中的連續穩定執行時間顯著增加，可靠性和抗碰撞性能顯著提高。圖為某公司硬盤塑料部件在等離子清洗機中加工的照片。 & EMSP; & EMSP; 2 耳機接收器 & EMSP; & EMSP; 耳機線圈在信號電流的驅動下驅動振膜連續振動。