在經濟效益方面，攝像頭模組plasma除膠機等離子體表面處理技術的應用效率高高、低運行產品成本，單位耗電量降低30-40%;99.9%降低處理劑的應用成本，相當于不消耗石油，減少自然資源;等離子體表面處理技術采用替代處理劑，避免揮發性有機物質(VOC)的產生，清潔生產環境，更大程度上保障員工健康。

氬氣、氦氣、氮氣等非活性氣體。氮處理可以提高材料的硬度和耐磨性。氬氣和氦氣非常穩定，攝像頭模組plasma除膠機分子充放電較低時，很容易產生亞穩態分子。一方面，它們可以利用其高能粒子的物理特性來清理容易被氧化或還原的物體。Ar+轟擊污染物，產生揮發性化學物質。清除真空泵表面的污染物，防止表面發生化學反應。氬很容易形成亞穩態分子，當它與氧原子碰撞時，會導致正電荷轉化和重組。

1、達因筆測試達因值小，攝像頭模組plasma除膠機物體的表面能低，達因值大，物體的表面能大，表面能越大，吸附、附著力越好粘接和涂覆效果越好;Dyne筆可以直接測試物體表面能量的大小，使用方便可靠。電子掃描電子顯微鏡是電子掃描電子顯微鏡的簡稱，它可以將物體表面放大數千倍，并拍攝分子結構的微觀照片。3、紅外掃描采用紅外檢測設備，可以檢測工件經過等離子體表面處理后，工件表面極性基團和元素組成的組合。

由氣體產生的自由基和離子具有很高的活性和能量，攝像頭模組等離子體表面處理足以打破幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面上引起化學反應?！伴g接等離子體”或“余輝”治療“間接等離子體”和“余輝”在意義上相似。它們的區別僅在于氣體進入加工室的方式不同。他們的共同特征是,不會產生等離子體處理室,和底物如PCB只是接觸的氣體流激活和電離.批量生產的設備間接等離子體方法難以控制,幾乎無法實現統一的治療結果。

攝像頭模組等離子體表面處理

此外,低功率的偏差/源電源也可以改善的比例第二條紋現象,因為偏見的力量主要控制等離子體離子加速,權力的來源控制等離子體的濃度,低偏壓電源可以減少離子轟擊能量,高功率的來源會增加大氣等離子體清洗機的等離子體密度，從而使離子之間的碰撞比例增加，等離子體的指向性和設備分離減弱同時，高源功率也分解更多[C]，這將產生更多的聚合物，聚集在光刻膠表面，保護光刻膠免受等離子體轟擊。

如果您對等離子表面清洗設備有更多的疑問，歡迎咨詢我們(廣東金來科技有限公司)

整體清洗過程大致如下:1.清洗過程:將清洗干凈的工件送入真空式固定，運行設備啟動，排氣開始，使真空室中的真空度達到標準真空度10Pa左右。一般的排氣時刻需要幾分鐘左右。將等離子清洗氣體引入真空室，保持真空室壓力穩定。根據清洗材料的不同，分貝可以使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。

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攝像頭模組plasma除膠機