等離子表面處理的化學反應和物理反應的區別等離子設備在處理過程中，表面反應主要是化學反應。等離子體清洗，習慣上稱為等離子清洗，很多氣體的等離子態都能形成高活性顆粒。由化學式可知，典型的pe工藝為氧或氫等離子體工藝，歷經與氧等離子的化學反應，可將非揮發性有機物轉化為易揮發的CO2和水汽。除去污垢，使表面潔凈；利用離子氫氣可以通過化學反應除去金屬表面的被氧化層，清潔金屬表面。
由反應性氣體離子化形成的高活性反應顆粒，在一定條件下，它與被清洗物的表面發生化學反應，其生成物為易揮發物質，可被抽除；而對于所清除氣體的化學成分，選擇適當的反應氣體組分至關重要。pe具有表面改性、清洗速度快、選擇性好、對有機污染等優點。缺陷在于可能會形成氧化物。
物理反應的等離子處理設備，又稱濺射腐蝕和離子銑IM。表面物理濺射是等離子體中的正離子在電場作用下獲得能量以轟擊表面，與表面分子片斷和原子發生碰撞，使污染物質從表面除去，并且能使表面在分子級范圍內轉變微觀形態粗糙化，從而改善表面的粘結力。氬本身是一種惰性氣體，等離子態的氬氣不與表面反應，其過程為氬等離子通過物理濺射來凈化表面。等離子體物理清洗并不會形成被氧化不良反應，保持被清洗物化學純凈，腐蝕各向異性，缺點是對表面有很大的損傷和熱效應，選擇性差，速度低。等離子表面處理的化學反應和物理反應的區別00224753