處理速度
處理速度是指等離子清洗設備噴頭的移動速度,處理速度范圍為1m/min~200m/min。隨著處理速度的提高,等離子處理效果會逐漸減弱。
處理功率
處理功率,是指等離子發生器的功率,隨著等離子體反應功率的增加,材料表面的刻蝕率隨之增加,,這是因為在較大的功率下氣體分子被激發生成等離子體后,單個等離子體粒子所攜帶的能量更高,飛行速度也較大,對材料表面的撞擊更劇烈,使得等離子體與材料表面反應的更加徹底,更多的大分子被打斷形成的小分子,進一步氧化成氣體分子揮發到周圍環境中,使材料的刻蝕率得到明顯的改善。
處理高度
處理高度是指等離子清洗設備噴嘴距離被處理物體的高度,處理高度有效范圍一般為0-10mm。
隨著等離子處理過程中噴頭與樣品距離的增加,處理效果相應減小。這可以解釋為等離子噴頭與材料表面距離小的時候,噴頭里流出的氣體粒子會被材料表面阻擋,因此粒子與材料表面的碰撞摩擦增加,一部分粒子甚至被材料表面反射回去。由于這些高能量粒子不斷的與材料表面碰撞,會造成材料表面的分子鏈斷裂,進一步被氧化成可揮發性物質脫離材料表面,這樣就增加了材料的刻蝕率。當噴頭高度過高時,噴頭流出來的粒子沒有受到阻擋,會逸散到周圍的空氣中,粒子攜帶的能量流失,對材料的作用微弱,刻蝕率因而降低一。