一種是13.56KHZ高頻電源。該電源產生高等離子體密度、軟能量和低溫。功率通常為1-2KW。幾百瓦的很多是N2電源，kh560附著力另外一個是40KHZ的中頻電源，跟射頻電源正好相反。等離子體的密度不高，但強度高，能量高，高度高，大功率可達幾十千瓦，理論上幾百千瓦，常用于除渣和蝕刻。將會完成。如果真空等離子設備使用中頻電源，則需要加水。冷卻。它也是PLASMA設備中常用的電源。 RF等離子設備的溫度與正常室溫相同。
正常情況下，kh560附著力材料在房間內加工，頻率為40KHz，一般溫度小于65°，機內有強力冷卻風扇，加工時間不長，材料表面溫度與房間相匹配溫度。如果頻率為13.56MHz，通常小于30°。因此，在處理容易受熱變形的材料時，真空等離子清洗機是合適的。四。產生陽離子的條件不同大氣壓等離子清洗機依靠氣體和產生陽離子的氣壓約為0.2mpa。真空等離子型等離子吸塵器使用真空泵。
真空等離子清洗機技術參數：電源頻率：13.56MHz/40KHz（可選）真空泵：油泵/干泵+羅茨組合腔體材質：進口316不銹鋼/鋁合金（可選）氣體流量：0 -500ccm燃氣管道：2通道（可增加）控制方式：PLC+觸摸屏真空等離子清洗機的技術優勢： 1）待清洗物體經過等離子處理后干燥。干燥后，硅烷kh560對銅附著力它干燥。
通過真空等離子設備聚合可以從有(機)硅單體中獲取類硅烷薄膜。將SiCHO復合物用以血液過濾器和pp聚丙烯的中空纖維膜上，...
