通過幾次試驗發(fā)現(xiàn),電暈機和靜電區(qū)別真空等離子體刻蝕設(shè)備某些參數(shù)的改變,既能滿足上述刻蝕要求,又能形成一定的氮化硅層,即側(cè)壁刻蝕。。等離子體化學(xué)催化只有當(dāng)分子的能量超過活化能時才能產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。在傳統(tǒng)化學(xué)中,這種能量是通過分子之間或分子與壁之間的碰撞來傳遞的。
二、影響清洗效果的主要因素1.電極對等離子體清洗效果的影響:電極設(shè)計對等離子體清洗效果有顯著影響,電暈機和靜電發(fā)生器的區(qū)別包括電極材料、布局和尺寸等因素。對于內(nèi)部電極等離子體清洗系統(tǒng),由于電極暴露在等離子體中,某些材料的電極會被某些等離子體刻蝕或濺射,造成不必要的污染和電極尺寸的變化,較小的電極間距可以將等離子體限制在較窄的區(qū)域內(nèi),從而獲得較高密度的等離子體,達到較快的清洗速度。
電壓降與電極比表面積的關(guān)系為VA/Vb=(Sb/Sa)&α;和指數(shù)&α;在假設(shè)的理想狀態(tài)下,電暈機和靜電區(qū)別范圍在1.0到2.5之間,因此這個值可以作為參考,但仍缺乏作為依據(jù)。在圓形電容耦合高頻放電過程中,指數(shù)&α;也可視為在上述范圍內(nèi)。下圖為等離子體表面處理設(shè)備圓柱形射頻放電極板電壓示意圖。工業(yè)應(yīng)用的圓柱耦合射頻等離子體表面處理設(shè)備常采用圓柱石英玻璃作為其反應(yīng)室。
如果不一致,電暈機和靜電發(fā)生器的區(qū)別確保將其從生產(chǎn)線上疏散或密封,并在操作人員可及的范圍內(nèi)。使誤取誤用成為不可能,稱為換型防錯。換模時,操作員用“換模防錯檢查表”檢查記錄軟硬件切換已全部落實,組長互相檢查。3數(shù)量短缺增加人員的相互檢查會導(dǎo)致效率降低。然后,除了使用計數(shù)器外,還可以從以下角度考慮改進:如果是正規(guī)產(chǎn)品,要擺放整齊。將一個包裝箱或一個料箱固定幾行、幾列、幾層,將點檢數(shù)量轉(zhuǎn)化為排列形狀的外觀檢查,數(shù)量確認變得非常直觀。
電暈機和靜電發(fā)生器的區(qū)別
5.受控效果:大、寬等離子體設(shè)備中的等離子體有三種效果模式。1.選擇氬/氧組合,主要針對非金屬材料,對處理效果要求較高。其次,選擇氬/氮的組合,主要針對待處理產(chǎn)品中存在不可處理金屬的區(qū)域。在該方案中,由于氧氣的強氧化作用,更換氮氣后可以控制問題。再次,只需使用氬氣即可實現(xiàn)表面改性,但效果相對較低。這種情況比較特殊,是一些工業(yè)用戶在需要均勻表面改性的同時進行的程序。。
電暈機和靜電發(fā)生器的區(qū)別