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(d)原料表面層的功能僅涉及納米級(jí)的處理，電芯plasma清洗設(shè)備(e)處理溫度低，對(duì)原料表面無損傷，常用樣品處理后能長(zhǎng)時(shí)間保持良好效果。根據(jù)客戶需求配置管道生產(chǎn)計(jì)劃(3)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)等離子體設(shè)備主要由高壓勵(lì)磁主機(jī)電源、等離子體發(fā)生器噴嘴和自動(dòng)控制系統(tǒng)組成。A、等離子設(shè)備高壓激勵(lì)主機(jī)電源:等離子的產(chǎn)生必須采用高壓激勵(lì)，常壓等離子設(shè)備采用中頻電源激勵(lì)，頻率為10-40khz。高電壓4-10kV，可根據(jù)樣品實(shí)際情況調(diào)整參數(shù)達(dá)到效果。

壓合速度:快160mm/s，電芯plasma清洗設(shè)備檢測(cè)速度:0.1-10mm/s，壓合速度:0.1-5mm/s6。設(shè)備最大開啟高度:根據(jù)產(chǎn)品特點(diǎn)定制。壓頭與下工作面的相對(duì)平行度:≤0.02mm/ mm8。壓頭移動(dòng)時(shí)相對(duì)于下工作面的垂直精度:0.02 mm/mm以內(nèi)9。壓力安裝可調(diào)行程:0-200mm，可控，重復(fù)精度:±0.01mm10。壓力顯示值與實(shí)際壓力誤差:1%。

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電芯plasma清洗設(shè)備

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較小的電極間距可以將等離子體限制在狹窄的區(qū)域內(nèi)，從而獲得更高的等離子體密度，實(shí)現(xiàn)更快的清洗速度。隨著清洗速度的增大，間距逐漸減小，均勻性卻逐漸增大，電極的尺寸通常決定了等離子體系統(tǒng)的整體容量，等離子體清洗系統(tǒng)中電極平行分布，電極通常用作托盤，較大尺寸的電極可以清洗更多的元件，提高設(shè)備效率。

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10、應(yīng)用范圍廣，凈化功率高，特別適用于其他方式處理多組分惡臭氣體，如化工、制藥等行業(yè)。此外，低溫等離子體廢氣處理設(shè)備占地面積小;電子能量高，可以簡(jiǎn)單地與所有惡臭氣體分子相互作用;運(yùn)行成本低;響應(yīng)快，停止很快，隨用隨開。

電芯plasma清潔設(shè)備

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因此,這個(gè)設(shè)備的設(shè)備成本不高,和清洗過程不需要使用更昂貴的有機(jī)溶劑,使總體成本低于傳統(tǒng)濕法凈化過程;7,使用等離子體清洗,避免清洗液體運(yùn)輸、存儲(chǔ)、放電和其他治療措施,所以生產(chǎn)站點(diǎn)很容易保持清潔和衛(wèi)生;8、等離子體清洗不能治療,它可以處理各種材料、金屬、半導(dǎo)體、氧化物、或高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂和其他聚合物)可以使用等離子體處理。