通過利用等離子共振技術提高金剛石納米顆粒的熒光強度，VASIMR等離子火箭并將金剛石納米顆粒與性能穩定的膠體金結合，使分布在膠體金附近的金剛石的熒光發射強度變為自由態熒光發射強度比強度顯著增加。金剛石拉曼散射增強和熒光增強的原因如下：另一方面，膠體AU具有較大的比表面積，粒子中的自由電子集中在粒子表面，激發光與粒子相互作用。 AU粒子表面形成光波電磁場。

激發的熒光分子通過弛豫過程將能量傳遞給金屬，等離子火炬合成貴金屬形成等離子體，未經弛豫的熒光分子發出的熒光誘導這些等離子體，熒光分子的發射波長與熒光強度相匹配。金剛石熒光通過金剛石納米顆粒和AU顆粒形成的等離子體的相互作用而增強。隨著 AU 的質量分數逐漸增加，鉆石的熒光強度也逐漸增加。等離子體振蕩增強了局部電場，加速了金剛石光子速度，以及金剛石和AU之間的能量轉移，熒光分子誘導的等離子體發射增強了金剛石熒光。。

聚合物表面的作用包括腐蝕、鍵斷裂（鏈）、自由基的形成，等離子火焰原理以及活性種與自由基的復合，從而引入新的官能團，形成交聯結構，增加。在等離子加工過程中，放電條件不同，以特定的作用為主，多種作用并存。聚合物處理的優點是效果顯著、工藝簡單、無污染。通過改變各種加工條件可以獲得各種表面性能參數，應用范圍很廣。聚合物處理效果也很大。在高分子原料的改性中，等離子表面處理的應用主要體現在以下幾個方面。

等離子體的能量可以通過光輻射、中性分子電流和離子電流作用于聚合物表面。等離子體中的分子、原子和離子滲透到材料表面，VASIMR等離子火箭材料表面的原子逃逸到等離子體中。這一過程切斷了纖維表面的聚合物鏈，顯露出微觀上不均勻的粗糙狀態，為進一步改性創造了條件。或者，它在表面產生離子和自由基，以改變親水性、滲透性、導電性、分子量等。 & EMSP; & EMSP; 此外，聚合物表面的結晶相和無定形相的比例可以改變。

等離子火炬合成貴金屬

在實際應用中避免導管的副作用并不是很好。可以在用等離子射流源處理過的材料表面研究低溫等離子的特性，并可以進行金屬、半導體和高分子材料等表面改性。性血漿車身改造技術廣泛應用于電子、機械、紡織、生物醫學工程等領域。目前，冷等離子體與材料相互作用的研究在國際上正在發展成為一個活躍的領域。研究它們相互作用的物理化學過程機理是微電子學、固體表面改性、功能材料等材料發展的重要課題。

這個過程，例如將一個氮分子分裂成兩個氮原子，稱為氣體分子分離。當溫度再次升高時，原子中的電子從原子中剝離成帶正電的原子核和帶電電子。這是一個稱為原子電離的過程。發生電離過程并形成等離子體。等離子體：等離子體，也稱為等離子體，是一個原子和一組被剝奪電子的原子的一部分。宏觀電中性電離氣體是電離后產生的正負離子的電離氣態物質，德拜長度較長，主要靠電磁力運動，表現出顯著的集體行為。

如何將等離子表面清洗機產生的等離子施加到材料外部？ （一）在等離子表面清潔劑中，大量的離子、激發分子、官能團等活性物質被物理性地用來腐蝕材料的外部，利用材料外向外部。去除覆蓋的雜物和雜質，使材料表面粗糙以防腐蝕，形成許多小凹痕，增加原料的比例。提高物質外部的潤濕性。 (B)活化(activation)結合能和交聯功能等離子表面清洗劑的粒子能量為0～20 EV，大部分聚合物鍵為0～10 EV。

尋找低成本、低污染的脫膠方法將是PVA漿料脫膠的發展趨勢。本文采用的等離子體處理方法不使用化學試劑，是一種環保、綠色的新技術。本文重點關注PVA膜，分析低壓等離子體時間參數對膜的影響，分析低壓等離子體處理后PVA膜表面形貌和化學結構的變化。實驗結果表明，經過低壓等離子體處理后，薄膜受到物理和化學作用的綜合作用，表面形貌和化學結構發生了一定程度的變化，蝕刻和溶解厚度延長了處理時間。

等離子火焰原理

等離子機經過適當處理后，等離子火焰原理在玻璃表面產生羥基和羧基等游離活性粒子，它們的能量增加，強酸聚氨酯粘合劑與玻璃表面相互作用。與傳統清洗方法相比，等離子表面活性劑法可以正確處理各種形狀的原型，對于復雜形狀的原型，等離子清洗可以找到更好的解決方案。運行成本低：全自動運行，24小時連續工作，無需人工監控，運行功率低至500W。正確處理其他物品和條件：大氣壓等離子清洗機只需要 220 VAC 和壓縮空氣源。