等離子體的應用領域有很多，氧等離子體去膠設備我們之前討論的都是工業制造應用，今天小編就帶大家了解一下等離子體是否可以在樹脂表面進行改性。采用臭氧等離子體對插入式芳綸織物進行預處理，對其表面進行改性，并對其染色工藝進行優化。結果表明,樹脂改性層與染料分子親和力更高,從而大大提高了芳綸織物的染色和染色深度比例,并獲得高耐摩擦色牢度和光線,但失去了耐高溫和芳綸織物的阻燃性能在一定程度上。

從上面可以看出，氧等離子處理增加羥基等離子體去除油漬的過程可以理解為有機大分子逐漸降解的過程，最終形成水和二氧化碳等小分子，這些小分子被排除在氣態。氧等離子體形成過程可以用以下六個反應來表示:O2—O2 + e(1)。O2—2- o (2)O2 + e—O2 + e(3)。

2.1化學清洗表面反應是以化學反應為基礎的等離子體清洗。案例1:O2 + e - - > 2o + e -O※+有機質→CO2+H2O從反應公式可以看出，氧等離子處理增加羥基氧等離子體可以通過化學反應將不揮發的有機物轉化為揮發性的H2O和CO2。示例2:H2 + e - > 2h是+ e -H※+不揮發性金屬氧化物→金屬+H2O從反應公式可以看出，氫等離子體可以通過化學反應去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。

等離子體清洗根據選用的工藝氣體不同可分為化學清洗、物理清洗和物理化學清洗。化學清洗:以表面反應為基礎的化學反應等離子體清洗，氧等離子處理增加羥基也稱PE。例1:O2+ E -→2O※+ E - O※+有機質→CO2+ h2o2從反應公式可以看出，氧等離子體可以通過化學反應將不揮發性有機質轉化為揮發性H2O和CO2。

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氬是一種常見的有效的物理等離子體清潔氣體，因為它的原子大小。能對試樣表面施加很大的力。正氬離子吸引負極板。震動足以清除表面的污垢。然后用真空泵抽走氣體污物。2)O2:在化學過程中，等離子體與樣品表面的化合物發生反應。例如，有機污垢可以通過氧等離子體處理器去除，在那里氧等離子體與污垢反應產生CO2、CO和水。在大多數情況下，化學反應會去除(3)H2:氫可以用于去除金屬表面的氧化物。它經常與氬混合以提高去除速度。

當Vds=10V時，飽和流量為0.0687A/ mm =68.7mA/ mm。當Vgs=2V和Vds=10V時，B試樣增加的飽和電流為0.0747A/ mm =74.7mA/ mm。結果表明，經氧等離子體處理后，器件表面沒有損傷，但器件的飽和電流有所增加。經血漿處理后的樣品高于處理前。這表明經過氧等離子體處理后，該裝置的大跨度導向和性能得到了改善。經氧等離子體處理后，HEMT器件的閾值電壓出現負位移。

主要適用范圍適用于金屬及非金屬制品，特別適用于不耐熱、不耐潮濕物品的滅菌，主要包括運動醫學、婦科、外科、耳鼻喉科、眼科、泌尿科等內鏡器械，如關節鏡、腹腔鏡、鼻竇內鏡、電切術、輸尿管鏡、電凝線、電鉆、電鋸及其他物品的消毒。公司是由一批長期從事等離子體技術應用研究、設備制造和銷售的行業資深人士創辦的。

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等離子體處理后，氧等離子處理增加羥基玻璃表面產生了羥基、羧基等游離活性粒子，提高了它們的能量。強酸聚氨酯膠粘劑與玻璃表面有較強的相互作用，其中羥基(活性)和羧基游離態顯著。與傳統的清洗方法相比，等離子體表面活性法可以正確處理各種形狀的原型，對于形狀復雜的原型，等離子體清洗方法可以找到更好的解決方案。運行成本低:全自動運行，24小時連續工作，無需人工護理，運行功率低至500W。