ICP電暈在工業上的另一個主要應用是電暈干法刻蝕，曲面電暈處理機操作規程尤其是反應離子刻蝕(RIE)ICP電暈干法刻蝕可以克服濕法刻蝕的嚴重鉆孔效應和各向同性，具有選擇性、各向異性等特點ICP電暈還廣泛應用于輔助磁控濺射和電子束蒸發過程中，作為離子源改善反應條件，降低反應溫度。電暈。低溫電暈法處理環保工程工業廢水低溫電暈處理工業廢水有三種途徑。

因此，曲面電暈處理機處理電暈作用于固體表面后，固體表面原有的化學鍵可以被打破，電暈中的自由基與這些鍵形成網絡交聯結構，極大地激活了表面活性。（3）新官能團的形成--化學作用如果在放電氣體中引入反應性氣體，活化材料表面會發生復雜的化學反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，可以明顯提高材料的表面活性。電暈！。電暈就是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理。

C.電子與物體表面的相互作用對物體表面的撞擊一方面可以促進吸附在物體表面的氣體分子分解或吸附；另一方面，曲面電暈處理機處理大量的電子撞擊有利于引發化學反應。由于電子的質量極小，它們的運動速度比離子快得多。進行電暈處理時，電子比離子更早到達物體表面，表面帶負電荷，有利于引發進一步反應。離子與物體表面的相互作用通常指帶正電荷的陽離子的作用。陽離子傾向于加速并沖向帶負電的表面。

當電暈能量密度為860kJ/mol時，曲面電暈處理機處理C2H6的轉化率為23.2%，C2H4和C2H2的總收率為11.6%。一般認為，流動電暈反應器中高能電子的密度和平均能量主要由反應氣體流量一定時的電暈能量密度決定。

曲面電暈處理機處理

整個清洗過程可在幾分鐘內完成，因此具有收率高的特點；電暈清洗需要控制真空度在Pa左右，這種清洗條件很容易達到。

由于Ni-Nel的偏差&中尉；

但由于慣性，電子并沒有停在平衡位置，而是沖過平衡位置，反向位移。這反過來又導致相反方向的電荷分離，產生反向返回電場，在那里電子再次被拉回并沖過平衡位置。重復地，電子在平衡位置附近集體來回振蕩。由于離子質量大，對電場的變化響應較慢，因此可視為靜止不動，仍充當均勻正電荷返回。當這種中性在電暈中被打破時的空間電荷振蕩。因為一開始發現的人是朗繆爾，所以也被稱為“朗繆爾振蕩”。

根據反應機理，電暈清洗一般包括：無機氣體被激發成電暈態；氣相物質吸附在固體表面；吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子分解為氣相；產物分子被分離成氣相。電暈清洗設備適用于清洗、活化、蝕刻、沉積、接枝、聚合等多種材料表面改性處理；電暈活性高、效率高，不易對電子產品造成離子損傷。

曲面電暈處理機操作規程