后續(xù)編號(hào)10SiO2/Si3N4 薄膜對(duì)的蝕刻使用硬掩模作為阻擋層，PFC等離子刻蝕機(jī)器在隨后的蝕刻工藝中，硬掩模側(cè)壁中的缺陷會(huì)轉(zhuǎn)移到 SiO2/Si3N4 薄膜對(duì)上。 ③關(guān)鍵尺寸統(tǒng)一。 (2)等離子表面處理機(jī)和等離子清洗機(jī)的通道通孔刻蝕，以及數(shù)十對(duì)SiO2/Si3N4薄膜的通道通孔刻蝕，由于其超高的縱橫比，對(duì)刻蝕提出了很大的挑戰(zhàn)。比率。

由于過(guò)孔底部等離子體分布不均勻，PFC等離子刻蝕機(jī)器高縱橫比對(duì)過(guò)孔底側(cè)壁變形、孔頂側(cè)壁變形和內(nèi)部蝕刻工藝提出了三大挑戰(zhàn)。在刻蝕過(guò)程中，隨著通孔的深度越來(lái)越深，等離子體越來(lái)越難以到達(dá)通孔底部并停止刻蝕。蝕刻工藝在多個(gè)步驟中重復(fù)“蝕刻排氣”循環(huán)過(guò)程，使蝕刻保護(hù)層的分布更加均勻，同時(shí)將偏置功率提高5-10倍，是普通邏輯工藝的5-10倍。以改善等離子體到達(dá)通孔底部。

等離子表面處理設(shè)備超低溫等離子刻蝕技術(shù)原理分析等離子表面處理設(shè)備的刻蝕方法有兩種：（1）博世刻蝕法和（2）超低溫刻蝕法。等離子表面處理機(jī) Bosch Deep Reactive lon Etching（博世DRIE）工藝使用C4F8氣體等離子體形成保護(hù)層，PFC等離子刻蝕并與SF6各向同性蝕刻交替產(chǎn)生性蝕刻。在縱橫比上，在此過(guò)程中產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)側(cè)壁具有扇形折痕。這種扇形是由于 SF6 等離子蝕刻在室溫下產(chǎn)生的橫向蝕刻成分。

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，PFC等離子刻蝕機(jī)器如開(kāi)篇所述，等離子清洗需要在真空中進(jìn)行（通常應(yīng)該保持在100PA左右），所以需要真空泵來(lái)產(chǎn)生真空。主要流程如下。首先將待清洗的工件送入真空室進(jìn)行固定，抽真空泵等設(shè)備抽真空至10帕左右的真空度，引入等離子清洗氣體。將其置于真空室中（所選擇的氣體，如氧氣、氫氣、氬氣、氮?dú)獾?，取決于清洗劑），壓力保持在100帕左右，在它們之間施加高頻電壓.真空室中的電極和接地裝置分解氣體并使其通過(guò)輝光。

PFC等離子刻蝕機(jī)器

首先將待清洗的工件送入真空室進(jìn)行固定，抽真空泵等設(shè)備抽真空至10帕左右的真空度，引入等離子清洗氣體。置于真空室中（根據(jù)清洗劑，選用不同的氣體如氧氣、氫氣、氬氣、氮?dú)獾龋?，壓力保持?00 PA左右。右；當(dāng)在真空室的電極和接地裝置之間施加高頻電壓時(shí)，氣體通過(guò)輝光放電分解和離子化，產(chǎn)生等離子體。真空室中產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋清潔后的工件。然后，當(dāng)您開(kāi)始清潔操作時(shí)，清潔過(guò)程會(huì)持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

或者對(duì)于其他腐蝕性、易燃易爆的工藝氣體，應(yīng)使用專(zhuān)用的質(zhì)量流量控制器。為實(shí)驗(yàn)室真空等離子清洗機(jī)選擇質(zhì)量流量控制器，實(shí)驗(yàn)設(shè)備一般不需要嚴(yán)格的流量控制要求，純手動(dòng)設(shè)備也可以用手動(dòng)浮子流量計(jì)測(cè)量。選擇時(shí)的其他注意事項(xiàng)真空等離子清潔器的制造商應(yīng)確保真空反應(yīng)室中的壓力穩(wěn)定。因此，在選擇了合適的燃?xì)饬髁靠刂破骱?，還應(yīng)注意燃?xì)夤芙宇^的選擇。快速螺紋接頭或套圈通常用作氣體管道接頭，以滿(mǎn)足工藝氣體真空管道的氣密性。

等離子清洗機(jī)清洗后手機(jī)觸摸屏?xí)儫釂幔???很多次？等離子清洗機(jī)噴頭前端的問(wèn)題是60度左右，和手機(jī)觸摸屏打交道時(shí)，處理時(shí)間短，速度快，所以手機(jī)屏幕的溫度手機(jī)大約是20到30度。等離子清洗機(jī)清洗氧化鋁陶瓷基板，提高鍵合可靠性 等離子清洗機(jī)清洗氧化鋁陶瓷基板，提高鍵合可靠性……目前，微波集成電路正朝著小型化、小型化的方向發(fā)展。工作頻率也越來(lái)越高，分布參數(shù)的影響越來(lái)越大，對(duì)產(chǎn)品的可靠性要求也越來(lái)越高。

3.高能：等離子體是一種高能粒子，在溫和條件下具有非凡的化學(xué)活性，無(wú)需添加催化劑?？梢詫?shí)現(xiàn)傳統(tǒng)熱化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的反應(yīng)（聚合反應(yīng)）。 (4)適用性廣：無(wú)論被加工基材的種類(lèi)如何，都可以加工，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物、大部分高分子材料等。 ⑤ 功能強(qiáng)大：只包含淺層高分子材料。材料的表面可以賦予一種或多種新特征，同時(shí)保留其獨(dú)特的特性。 ? 環(huán)保：等離子作用過(guò)程是氣相干反應(yīng)，不消耗水資源，不需要添加化學(xué)試劑。

PFC等離子刻蝕設(shè)備

由化學(xué)纖維、耐酸堿化學(xué)纖維、填料、助劑等制成。耐磨、耐熱、密封性能優(yōu)良，PFC等離子刻蝕主要用于真空等離子框架處理器真空泵外殼。等離子火焰處理設(shè)備中使用的數(shù)據(jù)氣壓計(jì)是一種電子數(shù)字壓力電源開(kāi)關(guān)，可以實(shí)時(shí)顯示氣壓數(shù)據(jù)并輸出壓力報(bào)警。瞬時(shí)壓力和設(shè)定低壓以數(shù)據(jù)格式顯示，直觀性強(qiáng)，合理避免誤會(huì)。數(shù)據(jù)氣壓計(jì)也可以通過(guò)安裝支架方便地安裝到機(jī)械設(shè)備的伺服柜上。應(yīng)用程序調(diào)整比針式氣壓計(jì)更強(qiáng)大。

4. 傳統(tǒng)的清洗方法清洗后往往會(huì)留下一層薄薄的污染物，PFC等離子刻蝕但當(dāng)使用等離子清洗機(jī)的活化工藝清洗時(shí)，污染物仍保持非常復(fù)雜的幾何形狀，即使是微弱的化學(xué)鍵也很容易斷裂。經(jīng)等離子清洗機(jī)處理后，等離子感應(yīng)聚合形成的納米涂層可以讓多種材料通過(guò)表面涂層實(shí)現(xiàn)疏水性、親水性、疏油性和疏油性。