研究它們相互作用的物理化學過程機理是微電子學、固體表面改性、功能材料等材料發展的重要課題。冷等離子體的高活性可在室溫下引起多種化學反應和物理摻雜，固體表面改性但主體材料的整體性能不受影響。等離子體化學氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）方法廣泛應用于功能材料的制備，表明低溫等離子體在材料表面改性方面具有很大的優勢。

目前，列舉表述固體表面改性的方法低溫等離子體與材料相互作用的研究已經發展成為國際上活躍的領域。研究其相互作用的物理化學過程機理，是發展微電子學、固體表面改性、功能材料等材料領域里的重要課題。低溫等離子體高的活性，在室溫下可以引起多種化學反應或物理摻雜，而基質材料的本體性能不受影響。等離子體化學氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）方法已廣泛用于制備功能材料，顯示出低溫等離子體對材料表面改性有著較大的優勢。

目前，列舉表述固體表面改性的方法冷等離子體與材料相互作用的研究在國際上正在發展成為一個活躍的領域。研究它們相互作用的物理化學過程機制是微電子學、固體表面改性、功能材料等材料發展的重要課題。冷等離子體的高活性可在室溫下引起多種化學反應和物理摻雜，但主體材料的整體性能不受影響。等離子體化學氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）方法廣泛應用于功能材料的制備，表明低溫等離子體在材料表面改性方面具有很大的優勢。

相反，固體表面改性如果潤濕是局部的，接觸角可以在0和180度之間平衡。固體基體表面張力越高，其潤濕性越好，接觸角越小。為了使液體與材料表面形成良好的粘結，材料的表面能應大于液體張力約2-10Mn /m。這類高分子材料具有化學慣性大、摩擦系數小、磨損大、耐穿刺、耐撕裂等特點。然而，這些聚合物較差的潤濕性給設計師帶來了粘合和裝飾材料的問題。等離子體表面處理通過增加材料表面的能量來改善潤濕性，并通過創建連接點來影響粘附性能。

列舉表述固體表面改性的方法

等離子體可以提高任何材料的表面活性，安全、環保、經濟。等離子體清洗的機理主要取決于&ldquo；激活&rdquo；達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理而言，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發成等離子體態；氣相物質吸附在固體表面；被吸附著基團與固體表面分子反應形成產物分子；產物分子分解形成氣相；反應殘留物從表面除去。。

氣體分子的激發是通過將氣體（以開放式設計提供）引入電場（通常是高頻）來實現的。在高頻電場的作用下，自由電子產生能量，與中性氣體分子碰撞，傳遞能量并解離，形成許多活性物質。受激物質與等離子體另一側的固體表面相互作用，從而對材料表面進行化學和物理改性。等離子體對特定物質的影響取決于表面與等離子體中反應物之間的化學反應。當接觸能較低時，等離子體與表面的相互作用只能改變材料的表面，限制了其有效性。

等離子化清洗技術應用于智能手機和移動終端設備：自動化等離子清洗點膠機可應用于光學透鏡、照相機模組、觸摸屏、耳麥、揚聲器、連接器、散熱材料、PCB/FPC、顯示面板、金屬框、玻璃蓋板、被動元件、振動馬達等，種類繁多，遠超 +種，遠遠超過了上述列舉。

相反，我們可以把等離子體定義為一種離子和電子密度近似相等的電離氣體。從上面提到的微弱的燭光中，我們可以看到等離子的存在，夜空中充滿了熱的、完全電離的等離子。根據印度天體物理學家沙阿(M·薩哈，1893-1956)的計算，宇宙中99.9%的物質處于等離子體狀態。我們生活的地球是一個例外的涼爽的星球。此外，對于自然界中的等離子體，我們還可以列舉太陽、電離層、極光、閃電等。

固體表面改性

因此，固體表面改性等離子清洗點膠機先清洗后點膠的工藝得到推廣，成為業界公認的工藝。目前等離子清洗點膠機的典型方面有以下幾個方面。1.等離子清洗點膠機在智能手機及移動終端設備中的應用在這方面，自動等離子清洗點膠機可以應用和加工的產品包括光學鏡頭、攝像頭模組、觸摸屏、耳機、揚聲器、連接器、散熱材料、PCB/FPC、顯示面板、金屬邊框、玻璃罩、被動元件、振動馬達等，種類繁多，遠不止上面列舉的幾種。

等離子體表面改性技術已廣泛應用于電子、機械、紡織、生物醫學工程等領域。目前，列舉表述固體表面改性的方法低溫等離子體與材料相互作用的研究在國際上已發展成為一個活躍的領域。研究它們相互作用的物理化學過程機理是微電子、固體表面改性、功能材料等材料領域的重要課題。低溫等離子體具有高活性，在室溫下可引起許多化學反應或物理摻雜，而基體材料的體積性能不受影響。