SIH4 + SIH3 + N2 用于氮化硅沉積。溫度為300℃，硅烷化處理EP管沉積速率約為180埃/分鐘。非晶碳化硅薄膜是通過添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。其中 X 是 SI / SI + C 的比率。硬度超過2500kg/mm2。等離子將聚合物薄膜沉積在多孔基材上，以形成選擇性滲透膜和反滲透膜。可用于分離混合氣體中的氣體，分離離子和水。

西南樺是西南地區經濟價值較高的速生木種，硅烷化處理是什么意思結構精細，花紋美觀，加工性能優良，是理想的地板和家具木材。以揮發性三甲基氯硅烷（TMCS）為單體，在等離子體環境下將甲硅烷基引入木材表面，使木材表面硅烷化，使木材表面具有疏水性，擴大了木材的使用范圍，提高了耐久性。等離子表面處理被認為是一種經濟環保的處理方法，因為它使用少量的化學藥品，反應在低溫下進行。

即使在不同溫濕度條件下連續老化28天后，鋁合金硅烷化處理木材表面仍表現出穩定的疏水性，老化后接觸角降低僅為1.9°。 ~ 3.7°在等離子體環境下，TMCS與西南樺木表面發生反應，將甲硅烷基引入木材表面，硅含量達到22.82%。處理后的木材表面形成均勻的顆粒結構，大大提高了木材表面的疏水性和疏水穩定性。

廣泛應用于電子工業、化工、光學等領域。一種等離子體沉積的硅化合物，鋁合金硅烷化處理使用 SIH4 + N2O（或 SI (OC2H4) + O2）產生 SIOXHY。氣動壓力 1-5 Torr (1 Torr & ASYMP; 133 Pa)，輸出為 13.5MHZ。 SIH4+SIH3+N2用于氮化硅沉積，溫度300℃，沉積速率180埃/分鐘。非晶碳化硅薄膜是通過添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。

鋁合金硅烷化處理

由于等離子體的作用，納米粒子表面產生大量羥基（-OH）等活性基團，硅烷偶聯劑水解產生的硅烷醇鍵反應形成氫鍵。納米粒子表面經等離子體處理后，出現強吸收峰，硅烷偶聯劑與納米粒子形成良好的相互作用，大量硅烷偶聯劑包覆在納米粒子表面，如圖所示。 ..等離子處理和非等離子處理的納米粒子的吸收峰基本相同，表明等離子處理并沒有改變納米粒子本身的化學鍵。

對納米粒子表面進行等離子體處理，可以有效提高納米粒子與硅烷偶聯劑的偶聯效果，從而提高納米粒子在聚酰亞胺復合薄膜中的分散性能，提高納米粒子與聚合物的分散性能。矩陣區域之間的增加。膠層通過硅烷偶聯劑與有機/無機兩相緊密接觸，相互作用強，耐電暈性強。在邊界層，形成高分子鏈與鍵合層和無機納米粒子的相互作用，耐電暈性略弱于鍵合層。松散層是與邊界層相互作用較弱的界面，其抗電暈性較弱。

等離子清洗技術-如何處理鋁合金陽極氧化膜等離子清洗技術越來越多地被主要制造商使用。今天小編分享了等離子清洗技術對典型航空鋁材硫酸陽極氧化效果的影響。作為合金材料的處理方法，對等離子清洗后的陽極氧化膜層進行中性鹽霧試驗。這種處理方法實際上已被證明在不（降低）鋁合金陽極氧化膜的耐腐蝕性的情況下保證了制品氧化膜保護的可靠性。

不同方法處理的涂層附著力測試比較表明，經溶劑處理的物品上的附著力測試涂層剝離不良，溶劑處理不能去除任何污漬。在等離子處理后涂覆制品后測試涂層附著力。 1 級要求。鋁合金經硫酸陽極氧化后，對經硫酸陽極氧化后的鋁合金表面進行清洗，以提高鍍層質量。結果表明，等離子清洗技術處理后的鋁合金陽極氧化膜的腐蝕性有所提高。

硅烷化處理EP管

三種綜合頻率的機理不同，鋁合金硅烷化處理40KHZ的反應主要是物理的，而13.56MHZ的反應既是物理的又是化學的，20MHZ的反應主要是化學的。因此，您需要在做出選擇之前考慮該過程。等離子腔體材料選擇：目前常用的材料有石英腔體、不銹鋼腔體和鋁合金腔體。