用來模擬大氣等離子處理設備下介質阻擋徑向演變的二維模擬自然地由于放電強度較大，徑向附著力大氣壓下氣體放電流體模擬中的多尺度問題、計算穩定性等問題比低氣壓下放電問題更加突出。。等離子表面處理機去膠法，除膠氣體為氧氣。該方法通過將電路板置于真空反應系統中，通入少量氧氣，再加上高頻高壓，由高頻信號發生器產生高頻信號，在石英管中形成較強的電磁場，將氧離子化，形成氧離子、活化氧原子、氧分子和電子等混合物質的輝光柱。

通過比較分布可以看出，徑向附著力不同尺寸的玻璃環的內護套對于不同內徑的玻璃環的護套是不同的。您可以看到粒子上的徑向約束是不同的。對實驗結果的進一步分析表明，在相同的實驗條件下，不同玻璃環的內徑不影響等離子體鞘層的厚度。護套的厚度與氣壓、放電功率、介電材料等有關。研究結果對于詳細研究非常重要。分析各種約束條件下等離子體鞘內帶電粒子的復雜運動以及等離子體鞘對加工的影響。。

通過圖像處理擬合得到內護套徑向二維分布，徑向附著力是什么玻璃環內護套具有四階多項式分布形式。正在研究不同內徑玻璃環中等離子體鞘層的分布規律。金屬電極的護套形成一個勢阱，灰塵顆粒可以結合到該勢阱上。由于帶電粒子漂浮在鞘層邊界附近，因此可以使用粒子分布來獲得鞘層分布。沒有方向限制。它是拋物線勢，但它是二次多項式形式的勢。顆粒的平衡位置靠近玻璃環。比較不同內徑玻璃環內鞘的分布情況，不同尺寸的玻璃環內鞘對顆粒的影響。徑向約束是不同的。

為處理上述技術問題，徑向附著力是什么作為本實用新型一個優選施行例，在密封圈本體內側設置第二凸部，憑借第二凸部可以前進密封圈軸向的密封功能。類似地，本實用新型供給的等離子體加工設備，由于選用本實用新型供給的密封圈，憑借易于變形的DI一凸部和第二凸部不只可以分別前進密封圈徑向和軸向的密封功能，使得背吹空間獲得杰出的密封，然后可以削減因氦氣泄露對工藝腔室真空度的影響，一起削減氦氣的運用量，下降出產本錢。

徑向附著力是什么意思

同樣，本實用新型提供的等離子處理設備，由于選用本實用新型提供的密封圈，加上易變形的DI凸部和第二凸部，不僅可以分別提升密封圈的徑向和軸向密封功能，使反吹空間得到很好的密封，進而減少氦氣泄漏對處理室真空度的影響，一起減少氦氣的利用量，從而降低生產成本。

為解決上述技術問題，作為本發明的一個優選實施例，所述第二凸部設置在所述密封圈主體內部，通過所述第二凸部沿軸向推進所述密封圈的密封功能。 .能夠。方向。同樣，本發明提供的等離子處理裝置通過選擇本發明提供的密封圈，通過一個易于變形的DI-1突起，提供密封圈的徑向和軸向密封功能。前進。該部分和第二脊可以充分密封反吹空間，減少氦氣泄漏??對工藝室真空度的影響，減少氦氣的使用，降低制造成本。

這是因為隨著等離子體能量密度的增加，等離子體中的電子能量和電子密度增加，導致高能電子與H2發生非彈性碰撞。增加活性物種產生的可能性，增加 C2H6 的轉化率，增加其他產品所需的各種 CHx 和 C2Hx 徑向濃度，并增加 C2H4 和 C2H2 的濃度。增加生成。 ..當等離子體能量密度為860 kJ/mol時乙烷的轉化率可達59.2%，乙烯和乙炔的總收率可達37.9%。

不同介質材料在等離子體中形成的鞘層厚度不同，因此，置于金屬下板上的玻璃環中鞘層的分布是復雜的，它不僅與等離子體參數有關，還與玻璃環的尺寸有關。當玻璃環半徑較小時，環內鞘層的徑向分布可用拋物線勢近似模擬。在這種拋物線勢的約束下，帶點的粒子很容易形成庫侖球，但當玻璃環半徑較大時，環內勢的分布不再是拋物線勢，勢的復雜分布可能引起粒子的各種復雜運動。

徑向附著力

當重力與護套靜電力達到平衡時，徑向附著力粉塵顆粒會懸浮在護套附近。因此，粒子的位置可以用來近似鞘層邊界，比探頭測量更精確。研究通常用于板上面的金屬環放置或玻璃環管理塵埃粒子的水平運動和不同電介質材料形成的等離子體鞘層厚度是不同的,因此,在金屬板上玻璃環鞘層的分布更為復雜,這不僅與等離子體參數有關，還與玻璃環的尺寸有關。當玻璃環半徑較小時，內護套的徑向分布可以用拋物線勢近似。