在旋轉半徑較小的前電極附近，介質plasma清洗設備由于部分電場強度超過了蒸氣體的電離場強度，蒸氣體產生電離和激發，從而引起電暈放電。電暈產生時，電極附近可見光，并伴有唑唑聲。等離子體電暈放電可以是一種相對穩定的放電方式，也可以是不均勻電場間隙穿透過程中的初始發展環節。等離子體介質阻擋放電(DBD)是一種將介質插入放電空間的不平衡蒸汽放電。它也稱為介質阻擋電暈放電或無聲放電。

當氣體受到電磁力作用時，介質plasma蝕刻設備會產生等離子體介質，等離子體介質中含有離子、電子、中子、光子、自由基、亞穩態粒子和分子，并在室溫下進行動態混合。經等離子體表面處理機處理后，化纖和織物的表層可在不影響其整體性能的情況下進行功能化處理。在電磁場的作用下，這些等離子體粒子沿人體織物表面梯度擴散，導致了各種通用的表面處理方法。

冷等離子體的電子溫度為3電子溫度與氣體溫度之比為10 ~，介質plasma蝕刻設備氣體溫度較低，如稀薄低壓輝光放電等離子體、電暈放電等離子體、DBD介質阻擋放電等離子體等。三、按等離子體在狀態上的分類按等離子體的狀態可分為平衡等離子體和非平衡等離子體。平衡等離子體是一種具有較高的氣體壓力和與氣體溫度大致相等的電子溫度的等離子體。如常壓電弧放電等離子體和高頻感應等離子體。

沒有磁冷卻的孤立體中的波有一個速度大于真空速度c的光波，介質plasma清洗設備對于各向異性的磁等離子體，介電常數變為張量。正如其他各向異性介質中存在兩種波一樣，磁化冷等離子體中也存在兩種波:普通波和異常波。當等離子體折射率n為0時，波被截斷并反射，當n &infin時，波與共振粒子相互作用并被粒子吸收。

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非磁化的冷等離子體中的光波速度比真空中的光速高c。對于磁化冷等離子體，它是各向異性的，介電常數變為張量。正如其他各向異性介質中存在兩種波一樣，磁化冷等離子體中也存在兩種波:普通波和異常波。當等離子體折射率n為0時，波被截止反射，當n→∞時，波與共振粒子相互作用并被粒子吸收。

等離子體處理具有較高的分辨率和保真度，有利于提高集成度和可靠性。等離子體沉積膜可以用等離子體聚合介質膜來保護電子元件，等離子體沉積膜可以保護電子電路和設備免受靜電積聚造成的損壞，等離子體沉積膜也可以制成電容元件。

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其特點是:加工空間大，介質plasma蝕刻設備提高加工能力，采用可編程控制器+觸摸屏控制系統，(準確)控制設備運行;根據客戶要求，定制設備容腔容量和層數，滿足客戶需求;精度高，響應快，兼容性好，功能完善。。真空等離子體處理設備產生的等離子體也是一種物質狀態，就像固體、液體或氣體一樣。一種氣體具有一定的勢能就能被電離，成為等離子體。“等離子體”、“活性”組成部分包括:離子、電子、活性基團、激發態核素(亞穩態)、光子等。