目前人工電暈的方法多為輻射激發，pet薄膜的電暈處理包括射頻輝光放電(10～MHZ，簡稱RF）和微波放電(1GHz以上，簡稱MW)。在高分子材料的表面改性中，兩者同時使用。射頻放電電暈更常用，但MW模式產生的低壓電暈在分布和材料表面處理上更均勻。

在極短的時間內將污染物分解，pet薄膜的電暈處理電離、解離、激發，進而引發一系列復雜的物理化學反應，使復雜的大分子污染物轉化為簡單的小分子安全物質，或惡臭的氣體有害物質轉化為無味無害的氣體。設備特點：1、高效廢氣凈化：該設備可高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物。2.無需添加任何物質：低溫等。離子體廢氣處理為干法凈化工藝，這是一種全新的凈化工藝。

電暈處理取代了傳統的高錳酸鉀化學處理方法，pet薄膜的電暈處理（電暈）無論消耗、控制、環保都占主導地位。更重要的是激光鉆出的小孔，氣體電暈容易進入，而化學物質很難進入。在用氣方面，一年下來，僅用幾瓶就能替代整個生產過程中上千升的化學品消耗。電暈處理印刷電路板每平方米的總成本只有高錳酸鉀的一半。進一步開發同系統技術，（電暈）預先設定工藝參數。可處理環氧樹脂、聚酰亞胺、聚四氟乙烯。

一、金屬表面除油清洗在使用濺射、噴漆、鍵合、電焊、釬焊、PVD、CVD、CVD等涂層前，pet薄膜能否進行電暈處理金屬表面往往會有一些油脂、油漬等有機物和氧化層，必須通過電暈刻蝕處理，才能獲得完全清潔的無氧化層。在這種情況下對電暈刻蝕機進行適當的處理會產生以下結果：1.灰化表層有（機）層表面將受到化學轟擊。B污染物在真空和瞬時高溫下部分蒸發。C在高能離子的沖擊下，污染物被粉碎，并被真空帶出。紫外線輻射對污染物的損害。

pet薄膜能否進行電暈處理

基座表面處理主要面向集成電路IC封裝生產過程，取出引線鍵合和倒裝芯片封裝，主動取出材料箱內的柔性板并通過電暈進行清洗，去除數據表面污染，不受人為干擾。已經，這臺設備的效率如此之高，讓我們具體了解一下在線電暈清洗設備的工藝流程：(a)將4個裝滿柔性板的料箱放置在上料取料通道上，推料設備將前面的料片推出至上料卸料傳動系統。

當粘合劑很好地滲透在粘合產品的表面時（接觸角θ90℃)時表面的粗糙化不利于結合強度的提高。電暈處理設備可以有效清潔附著在物體表面的污染物和無機物，增強產品表面的親水性，從而增強粘接、涂覆、涂裝等處理過程的質量，大大提升成品成品率。

處于電暈狀態的物質有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應的分子、原子等，但物質作為一個整體保持電中性。

由于電暈是常溫的，所以對設備沒有其他損壞，這無疑是客戶在選擇電暈設備時比較放心的。。電暈主要通過氣體放電產生電暈，電暈中含有離子、電子、自由基、紫外線等高能物質，具有活化材料表面的作用。真空電暈的作用主要是物理作用、交聯作用和化學作用，通過物理作用最終達到產品加工效果。

pet薄膜的電暈處理

無機粉體與聚合物形成的復合材料可賦予體系更好的力學、光學和電學性能，pet薄膜的電暈處理越來越多地應用于電子、生物、膜分離、催化、航空航天等高科技領域。傳統的濕法表面改性存在工藝復雜、環境友好性差等缺點。在眾多改性方法中，低溫電暈表面活化技術以其工藝簡單、無需溶劑、節能高效等優點成為粉體處理最熱門的研究技術之一。電暈表面活化對粉體有哪些處理作用？1.改變粉體表面結構經過電暈處理后，粉末的結構會發生明顯變化。

4.橡膠a.表面摩擦力：減小密封條和O形圈的表面摩擦力；B.附著力：提高膠粘劑對橡膠的附著力通過加速電暈或化學蝕刻中離子的沖擊來選擇性地改變表面形貌，pet薄膜的電暈處理從而提供更多的結合點，提高附著力。5.印刷電路板(PCB)a.清除孔內的膠水殘留物。鍍金前必須清除孔內的膠水殘留物。