從能給人類帶來無限清潔力量的可控聚變，薄膜表面電暈處理機到色彩斑斕的日光燈，以及芯片制造業不可或缺的刻蝕機……電暈技藝經過幾十年的發展，其奇特的“魔力”越來越驚人，但我國在電暈產業應用方面仍缺乏熱度。電暈是物質的第四種狀態，不同于固體、液體和氣體。物質由分子組成，分子由原子組成，原子由帶正電荷的原子核和周圍帶負電荷的電子組成。

但從環境影響、原料消耗和未來發展來看，塑料薄膜表面電暈處理機干洗明顯優于濕洗。電暈清洗發展迅速，在干洗方面優勢明顯。電暈清洗逐漸廣泛應用于半導體制造、微電子封裝、精密機械等行業。2.電暈的機理電暈是一種部分電離的氣體，是固體、液體和氣體之外的第四種物質狀態。電暈由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于電暈中電子、離子、自由基等活性離子的存在，容易與固體表面發生反應。

這些顆粒極易與產品表面的污染物發生反應，塑料薄膜表面電暈處理機最終形成二氧化碳和水蒸氣排出，以增加表面粗糙度，清潔表面。真空電暈經過清洗反應后，會與材料表面的污染物發生反應，形成細小顆粒或水分子。這些物質必須在第一時間排出，以免對物料表面造成二次污染。電暈可以形成自由基清除產品表面的有機污染物，活化產品表面，旨在提高產品的附著力和表面附著力的可靠性和耐久性。

隨著半導體工藝的發展，薄膜表面電暈處理機由于其固有的局限性，濕法刻蝕逐漸限制了其發展，因為它已經不能滿足微米甚至納米級微細導線的超大規模集成電路的加工要求。晶圓電暈刻蝕機干法刻蝕因其離子密度高、刻蝕均勻、表面光潔度高等優點，在半導體加工工藝中得到了廣泛的應用。電暈刻蝕機是一種多功能的電暈設備，可配置不同部件，如表面電鍍、刻蝕、電暈化學反應、粉末電暈處理等。電暈刻蝕機對晶圓具有良好的刻蝕效果。

薄膜表面電暈處理機

通常情況下，物質以固態、液態和氣態三種狀態存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態，比如地球大氣中電離層中的物質。處于電暈狀態的物質有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應的分子、原子等，但物質作為一個整體保持電中性。電暈的機理主要取決于電暈中活性粒子的&ldquo；激活&rdquo；達到去除物體表面污漬的目的。

塑料薄膜表面電暈處理機