20年來一直致力于真空等離子機(jī)的開發(fā)和生產(chǎn),平板清洗線如果您想了解更多的產(chǎn)品細(xì)節(jié)或者在設(shè)備的使用中有疑問,請(qǐng)點(diǎn)擊在線客服,等待您的來電!。真空等離子體機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用解決了三個(gè)技術(shù)問題:它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物、醫(yī)藥、光學(xué)、平板顯示等行業(yè)。它利用一些活性組分對(duì)樣品表面進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)清洗、清洗、改性等功能。
設(shè)備尺寸1105w *14880D*1842Hmm(帶信號(hào)高度2158mm)水平板8層電極板403w * 450dmmm2路工藝氣0-300ml/min真空測(cè)量日本ULVAV真空量規(guī)人機(jī)界面觸摸屏自主研發(fā)電極至距離48mmsignal light3 Ribbon報(bào)警真空泵90m3/h雙極油泵系統(tǒng)電源、AMP、機(jī)械占地面積:設(shè)備host1805 (W) x1988 (D) x1842 (H) mm射頻(rf)電源射頻(rf)頻率13.56 MHZRf power0WRf電源適配器全自動(dòng)匹配,平板清洗線領(lǐng)先的空氣電容技術(shù)設(shè)備前提電源:AC380V,50/60Hz,三相無線7.5 kvacv壓縮空氣要求無水無油CDA60~ 90psig抽搐系統(tǒng)≥2立方米/分鐘,中央排氣處理管道可系統(tǒng)環(huán)境要求30°(室溫最佳)工藝氣體要求15~20paog99.996%以上。
當(dāng)日食發(fā)生時(shí),平板清洗機(jī)器在太陽周圍可以看到一個(gè)明亮的光暈(日冕)以等離子體的形式存在。隨著能量輸入的增加,物質(zhì)的狀態(tài)發(fā)生了變化,從固體變?yōu)橐后w,再變?yōu)闅怏w。如果放電給氣體增加了能量,它就變成等離子體。等離子體轟擊可以用來腐蝕、激活和清潔物體的表面。等離子體表面處理系統(tǒng)已廣泛應(yīng)用于液晶、LED、液晶、PCB、SMT、BGA、導(dǎo)架、平板顯示的清洗和蝕刻,以及液晶顯示器件的加工。