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氧清洗

如果設備一直處于抽真空狀態,紫外臭氧清洗機增加親水性真空室內的真空度會不斷增加,分子之間的距離會增加,分子間的作用力會減小,使用等離子的清洗設備的等離子發生器產生的高壓交流電場它將激發 Ar、H2、N2、O2 和 CF4 等工藝氣體,并將其變為具有高反應性和能量的等離子體以防止它發生。半導體器件表面的有機污染。揮發性物質與細小顆粒反應生成揮發性物質,通過真空泵抽出,達到清洗、活化、蝕刻等目的。。

增加親水性的基團

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