中國人在低溫等離子體清洗機等離子刻蝕機研制中的貢獻；&ldquo；龍的傳人&rdquo；在低溫等離子體清洗機中，特氟龍plasma刻蝕機等離子體刻蝕機在過去近半個世紀的發展中起到了重要的作用。1999年出版的《硅谷英雄》提到了兩位與低溫等離子刻蝕設備研制密切相關的中國人。一位是林大衛博士，出生于中國廣東。1967年畢業于加拿大多倫多大學工程物理系，后在麻省理工學院獲得化學工程學士學位（1970年）和博士學位（1973年）。

利用表面等離子刻蝕機改善隱形眼鏡表面層的方法；等離子體刻蝕器已被用來處理硅樹脂透鏡的表面，特氟龍plasma表面處理機器以改善其表面性能，列舉了表面變得更親水，更耐積累，更耐磨損，或其他改進。在硅氧烷或聚氨酯鏡片上提供保護涂層的方法是將電流光放電處理的鏡片（表面等離子體處理設備）制成等離子體，即先在碳氫化合物氣氛中處理鏡片，再在氧氣氣氛中處理鏡片，以增加鏡片表層的親水性。

自然形成的等離子體稱為自然等離子體（如極光、閃電等），特氟龍plasma表面處理機器人工形成的等離子體稱為實驗室等離子體。實驗室等離子體刻蝕機是在有限體積中形成的。等離子體刻蝕機自放電原理：利用外電場或高頻電場引導蒸氣，稱為蒸氣自放電。蒸汽自放電是形成等離子體的關鍵途徑之一。被外電場加速的部分電離蒸氣中的電子器件與中性分子結構碰撞，將電場獲得的能量傳遞給蒸氣。

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可實現物體表面的超凈清洗、表面活化、蝕刻、光整及等離子表面涂層。根據等離子體中粒子的不同，物體處理的原理也不同。此外，輸入氣體和控制功率不同，實現了對象處理的多樣化。由于低溫等離子體表面處理的強度小于高溫等離子體，可以保護被處理物的表面，所以在應用中多采用低溫等離子體。而各種粒子在處理物體的過程中表現出不同的作用，原子團（自由基）。

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對于CVD工藝模擬，采用宏觀和微觀多層次模型模擬預測工藝和涂層的各種性能以及基體的附著力；通過模擬滲碳氮化工件的性能和應力，人們可以更好地控制和優化工藝。我國在這方面的研究正處于超臺階階段。2010年在表面處理方面出現了許多新技術、新工藝。下面慧聰小編繼續為您解讀：復合表面技術迅速崛起隨著單一表面技術的發展，綜合運用兩種或兩種以上表面技術的復合表面技術發展迅速。

采用發射光譜原位診斷技術，分析了不同CO2添加量下等離子體清洗機CO2氧化CH響應系統中甲烷響應的活性物種。。等離子體清洗機是一種部分電離的氣體，是除固體、液體和氣體外的第四種物質狀態。等離子體由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于等離子體中含有電子、離子和自由基等活性粒子，它們與固體表面發生反應。其關鍵是通過激活等離子體中的活性粒子來去除工件表面的污垢。

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