2.環氧樹脂地坪漆基材含水率測試儀：用于測量基材含水率，靜電處理器電暈機以確定是否符合環氧樹脂地坪漆的涂裝要求。3.環氧樹脂地坪漆靜電導率測試儀：用于測定防靜電環氧樹脂地坪漆地坪的靜電導率。其他輔助工具1.環氧樹脂地坪漆縫紉機、環氧樹脂地坪漆涂膠槍：用于縫隙處理，切割機用于將縫隙切割改性成&ldquo；V&rdquo；字體或梯形(5-10mm寬），方便灌裝澆注；膠槍用于澆注聚氨酯彈性膠。

同時，靜電處理器電暈機電子行業對自動化程度要求很高，需要采用高可靠性、高生產效率和處理效果的在線表面處理工藝。常壓電暈為顯示器塑料帶來了有效的解決方案，在噴涂設備上進行防靜電、防劃傷噴涂之前，先對塑料窗口部分進行電暈處理。由于電暈技術的應用，材料的表面性能得到提升，涂層的分布更加均勻，不僅達到了美觀的外觀，還大大降低了生產過程中的廢品率。。

電暈不需要使用大量的酸、堿、有機溶劑等，電暈機能不能當靜電處理器用不會給環境帶來任何污染，有利于環境保護和人員安全。電暈具有非常好的均勻性、重復性和可控性，并具有三維加工能力，可以選擇方向。電暈的特點是無正負極，自偏壓很小，不會產生放電污染，有效防止靜電損傷；電暈密度高，生產效率高；離子運動影響小，不會產生UV（紫外）輻射，特別適用于一些敏感電路的清洗過程。

肖特基結和快速電荷轉移通道能有效抑制電子-空穴復合。與肖特基作用相比，電暈機能不能當靜電處理器用某些表面電暈的振動增強光催化更為明顯。當進入金屬納米顆粒時，振蕩電場振蕩傳導電子，金屬表面自由振蕩的電子和光子產生沿金屬表面傳播的電子密度波，這是一種電磁表面波，即表面電暈。當金屬離子的振蕩頻率與人體光子相同時，它們也會產生振動，對入射光有很強的吸收作用，從而引起局部表面輪廓子體振動。

電暈機能不能當靜電處理器用

這種氧化膜不僅阻礙了半導體制作的許多步驟，而且含有一些金屬雜質，在一定條件下會轉移到晶圓上，構成電缺陷。這種氧化膜的去除通常是用稀氫氟酸浸泡完成的。電暈在半導體晶圓清洗工藝中的應用電暈清洗具有工藝簡單、操作方便、不處理廢物、不污染環境等優點。但不能去除碳和其他非揮發性金屬或金屬氧化物雜質。光刻膠的去除過程中常采用電暈清洗。

電暈脫膠劑實際上是在真空狀態下結合O2進行氧化反應，從而快速脫除膠體。。電暈于1879年首次被發現，1928年由朗繆爾命名為電暈。電暈是由大量帶電粒子相互作用但仍處于非束縛態組成的微觀系統，是物質除氣體、液體和固體外的第四種狀態。電暈溫度可以分別用電子溫度和離子溫度表示。低溫電暈的電離率較低，其離子溫度甚至可以與室溫相差無幾。因此，日常生發生活中有很多場景可以使用低溫電暈技能。

因此，為了解決體硅損傷問題，必須降低加速氫離子的電場強度。當偏壓從80V降低到60V時，在保持多晶硅柵側壁形貌的前提下，體硅損傷可從8.5A降低到6.3A。與傳統的電暈表面處理器連續電暈相比，電暈表面處理器脈沖電暈可以有效降低電場強度。在同步脈沖電暈中，體硅損傷層厚度僅為連續電暈工藝的20%，代表了電暈刻蝕的未來方向。

但需要解決的問題是，LCM技術常出現樹脂在纖維上浸漬不理想、產品表面出現內部空洞和干斑等現象。由此可見，樹脂在纖維表面的潤濕性將直接影響LCM成型工藝和制品性能。因此，可以考慮采用電暈清洗技術改善纖維表面的理化性能，預制件中纖維的表面自由能增加，在相同工藝條件（壓力場、溫度場等）下，樹脂可以充分浸漬纖維表面，提高浸漬均勻性，改善復合材料液態模塑的工藝性能。

靜電處理器電暈機