在實際的等離子體表面激活器中，電暈處理機沒有輸出陰極和陽極之間的電弧放電使流入的工作氣體電離，輸出的等離子體呈射流狀，可用于等離子體射流（大氣壓射流等離子體、等離子射流等），此外，幾百帕以下的低壓等離子體表面激活器通常處于非熱力循環狀態，與離子或中性粒子碰撞時，電子幾乎不損失能量，因此具有Te>>Ti、Ti>>Tn。低溫等離子體稱為低溫等離子體。

模擬輸入正負極采用單芯1方綠色軟線，電暈處理與等離子的效果模擬輸出采用單芯1方黃色軟線為了保證采集到的信號不受外界干擾，需要使用具有屏蔽性能的屏蔽線。4低壓真空等離子體清洗機高頻電路低壓真空等離子體清洗機高頻高壓放電需要使用專用高頻電纜，電纜采用高純無氧鍍銅銀工藝，具有傳輸信號穩定、傳輸速率高、絕緣耐高溫、韌性高、雙層屏蔽抗干擾能力強等優點。如果使用質量較差的高頻電纜，會影響設備的放電效率。

例如，電暈處理與等離子的效果氧等離子體氧化性高，可氧化光刻膠產生氣體，從而達到清洗效果；腐蝕氣體的等離子體具有良好的各向異性，可以滿足刻蝕的需要。等離子體處理會發出輝光，故稱輝光放電處理。等離子體處理的機理主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。

有幾種情況：A.電容封裝會導致寄生電感；B、電容會帶來一定的等效電阻；C、電源引腳與去耦電容之間的導線會帶來一定的等效電感；D、地腳和地平面之間的導線會帶來一定的等效電感。產生的效果：a.電容會在特定頻率上引起諧振效應以及由此產生的網絡阻抗對相鄰頻段的信號產生較大影響；b.等效電阻(ESR)也會影響解耦高速噪聲形成的低電阻路徑。

電暈處理與等離子的效果

利用膠原側鏈氨基的反應活性，通過與膠原側鏈氨基的反應引入羰基、羧基、羥基等活性基團，是增加膠原側鏈羧基的有效手段。也可以引入醛基，因為醛基與膠原蛋白的氨基發生反應，可以增加膠原蛋白側鏈中羧基的數量。這樣，在保證皮革質量的前提下，生產過程中最大限度地提高了鋯、鋁、鈦等無鉻金屬的利用率，從而達到無鉻鞣制和高吸收清潔鞣制工藝的效果。

目前，CO2一步氧化CH4制C2烴的反應機理是CO2在等離子體作用下分解生成CO和激發亞穩態活性氧，這些活性氧在甲烷氧化偶聯反應中非常活躍。

真空等離子體清洗機的工作過程；真空等離子體清洗機包括反應室、電源和真空泵組。當樣品放入反應室時，真空泵開始抽氣造成一定程度的真空。當電源啟動時，產生等離子體，然后將氣體引入反應室，使室中的等離子體成為反應等離子體。這些等離子體與樣品表面反應產生揮發性副產物，由真空泵抽出。真空等離子體清洗機在醫學領域的應用；1.導尿管的處理導尿管給需要留置導尿管的患者帶來福音，臨床應用越來越廣泛。

離子轟擊破壞清潔后的表面，削弱化學鍵，形成原子態，容易吸收反射體。正離子碰撞加熱被清洗的物體，容易反射。。常用的等離子體激勵頻率有三種：激勵頻率為40kHz的超聲等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。

電暈處理與等離子的效果

在集成電路制造工藝中，電暈處理與等離子的效果由充電效應引起的柵氧化層退化是一個嚴重的問題。引起PID的主要機理如下：（1）等離子體密度。更高的等離子體密度意味著更大的電流。在電荷誘導損傷模型下，較高的等離子體密度更容易產生PID問題。克里希南等人。發現ICP金屬刻蝕反應室高度由8cm降低到5cm，晶片表面電場強度顯著增強。等離子體密度的增加導致電荷充電，造成嚴重的器件損傷。（2）等離子體局部不均勻性。

產生的激發態氧原子比普通氧原子活性更強，電暈處理機沒有輸出能氧化污染潤滑油和硬脂酸中的碳氫化合物，生成二氧化碳和水。同時，等離子射流還具有機械沖擊力，起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物迅速從玻璃表面分離出來，達到高（高效）清洗的目的。除機械作用外，等離子體清洗機主要是活性氧物種的化學作用。等離子體中Ar*的激發態激發氧分子進入激發狀態態氧原子的高能電子撞擊氧分子使其分解，形成被激發態氧原子污染的潤滑油和硬脂酸。