..在一定的等離子體條件下，等離子體噴射化學氣相沉積法CH4轉化率和C2烴產率與MgO、CaO、SrO和BaO的堿度具有恒定的關系。簡而言之，堿度有助于提高 CH4 轉化率和 C2 產率。烴。在堿土金屬氧化物的情況下，堿度隨著原子序數的增加而增加，因此BaO/Y-Al2O3和等離子體可以共同作用以獲得更高的C2烴產率。

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總之，等離子體蝕刻為什么有各向異性?臨床血漿子代醫學的生化基礎非常復雜，在實際臨床使用中，需要仔細考慮紫外線、帶電粒子、膜電位、氣體溫度等引入因素。 ..。低溫等離子體原子團化學反應在多肽工業中的應用研究：化學反應是一個原子或一個原子團的重組，需要來自外界的反應活化能。與等離子體相比，大多數工業生產的反應物處于密集凝聚狀態。

等離子體蝕刻為什么有各向異性?

1.經過等離子預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明(顯)提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺(菌)條件時仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學涂層，該涂層不僅對鍍鋁層有優異的粘附性能，同時可以滿足后續的水煮殺(菌)條件。

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其它生物醫學器械，如血管成型球囊，具有獨立的隔膜，必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作 ◆紡織品納米等離子涂層防水處理：采用低壓等離子聚合反應或原子層沉積法對紡織品進行防水處理完全不影響織物、皮革的透氣型，水汽、汗氣可以自由排出。纖維表面被包裹上一層納米層，且織物內部無法蓄水，這也就徹底杜絕了霉菌的滋生，讓霉菌無法立足。

等離子增強化學氣相沉積法PECVD通常是將兩種或兩種以上工藝氣體在等離子體狀態下反應，生成新的固體物質，并在材料基底上形成一層薄膜物質，這種工藝目前已廣泛應用于光學膜制備等領域。等離子體濺射也是利用兩種或更多的氣體電離成等離子體進行的反應，不同的是，其中一種反應物是利用荷能粒子從靶材上濺射下來，然后通過反應生成薄膜，這屬于濺射制膜范疇。

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利用電極間的高電勢差產生電弧放電(> 00℃)，等離子體蝕刻為什么有各向異性?將電極周圍的氣體電離成等離子體，再以高速撞擊懸浮的表面改性物粉末使之沉降于金屬表面。等離子噴涂是當前應用廣的沉積法。它能在基體與表面改性層之間提供很高的結合力，并能獲得覆蓋完整的涂層(4O～54m)。用這種工藝形成的涂層在體液中能迅速形核長大。