ITO薄膜因其良好的導電性能、較高的可見光透過率以及易加工等特性，被廣泛應用在平板顯示、太陽能電池、透明電池、有機發光器件（OLED）、鈣鈦礦發光二極管（PeLEDs）及微波屏蔽等諸多領域。對于PeLEDs，空穴層直接旋涂在ITO薄膜表面。但是，若ITO薄膜沒有較好的附著力和潤濕性，極易影響成膜質量，導致器件效率低下。另外，ITO作為透明電極，其電荷注入能力和功函數也是影響器件效率的主要因素。因此，從器件整體角度出發，提高ITO薄膜的潤濕性和性能參數顯得尤為重要。
對于處理ITO薄膜的方法，人們嘗試采用機械粗糙化、濕化學處理法、輝光放電、離子束轟擊、等離子體（Plasma）處理等方法，其中等離子體處理的效果最為明顯。等離子體技術可以將相對穩定的惰性氣體變得更具化學活性，且可以通過改變氣體控制具體的化學反應。在整個處理過程中，輝光放電使得整個樣品表面經受高能粒子的（離子、電子）轟擊，但其只對材料表面進行改性，深度只有幾個納米，并不會影響樣品本身的性能。
等離子處理后ITO薄膜表面潤濕性的變化
潤濕性是由液體分子之間的內聚力和液體與固體之間的分子相互作用產生的粘合力兩者相決定的，接觸角是衡量潤濕性的重要參數。圖1為氧等離子體處理前后潤濕性狀態。比較處理前后ITO薄膜靜態H2O的潤濕性狀態，可以發現：當一滴固定大小的蒸餾水滴至未處理的ITO薄膜時幾乎不發生鋪展，且形成一個高突的液滴；處理5min后的ITO薄膜滴入相同大小體積的蒸餾水液滴后幾乎完全鋪展開，并形成液體薄膜。245062450624506