等離子表面處理機的超低溫深反應離子刻蝕工藝采用平面大縱橫比結構圖案，極耳等離子體蝕刻機器使用-100℃以下連續O2等離子刻蝕和SF6等離子刻蝕產生的副產物保護層。 .空間。低溫刻蝕工藝的主要機理是獨立控制硅溝槽底部和溝槽側壁的刻蝕反應，改變陰極電壓以降低硅片基板的溫度以進行更高的硅刻蝕。那是。可以獲得更高的硅蝕刻速率。高硅光刻蝕選擇性。

低溫等離子處理光纖裝置對PBO光纖表面和未處理PBO光纖表面的影響是光滑的。 PBO光纖的表面是由于等離子處理過的PBO光纖表面的蝕刻作用，極耳等離子體蝕刻增加了表面粗糙度。這也證實了處理后的PBO纖維的比表面積增加。提高 PBO 纖維的潤濕性。用大氣低溫等離子體處理PBO纖維提高了PBO纖維的潤濕性。低溫等離子處理后的PBO 纖維吸力增加，接觸角減小，表面被蝕刻，粗糙度增加，表面積增加，纖維潤濕速度加快。

使用等離子發生器進行表面處理，極耳等離子體蝕刻機器提高了原材料表層的潤濕性，從而改善了原材料的涂層等性能，提高了原材料的附著力和內聚力，并且（高效）可去除.增強有機（有機）污染物和原料表層的親水性。等離子發生器用塑料玩具的表面處理：可用于表面層改性、粘合強度、涂層和印刷。塑料玩具鐘由于面漆是化學惰性的，如果沒有特殊的表面處理，很難用通用粘合劑粘合和印刷。等離子發生器主要用于塑料玩具表層的蝕刻（活化）、接枝、聚合等。

但在塑料薄膜增強軟單板的制造過程中，極耳等離子體蝕刻機器界面粘合性能較差，易卷曲變形，受高溫熱壓等影響，限制了工業化生產和推廣。表面等離子體處理設備 等離子體是由基態和激發態的電子、離子和中性粒子組成的氣體混合物，在放電過程中產生大量離子，使材料表面發生物理和化學表面化。合格。它的優點是清潔高效。用于等離子體重整的低溫表面等離子體處理設備可用于通過激發原子和分子、自由基和離子以及等離子體。

極耳等離子體蝕刻

常壓等離子設備技術參數如下（）： 輸入電源：AC220V，PE.50HZ（±20） 高壓線長度：>170CM（可定制） 噴槍口徑：20-50MM 工作環境溫度： <42℃相對溫度≤40℃RH最大功率：≤800W（可調）輸入氣源壓力：≥0.4MPA或≥0.3MPA頻率：25KHZ輸出工作壓力：15-20KPA（可調）總主機：約12KG控制方式：內部模擬控制（可與現有自動化系統集成啟動短路信號） 主機尺寸：130MM（長）*240MM（寬）*300MM（高）噴嘴加工寬度：直噴類型：2MM、4MM、10MM；旋轉類型：30、50、80MM 加工高度：4-15MM 火焰溫度：40℃-60℃ 金屬等材料可以增加表面能。

..整個清洗過程的成本可以通過使用昂貴的有機溶劑來降低，但是清洗力還是很高的，只需要幾分鐘就可以完成清洗。第三，適用范圍廣也是常壓等離子清洗設備的一大優勢。您可以有效地清洗任何原材料，無論是金屬、半導體還是氧化物，并為對象設置清洗操作。部分或全部清潔也非常方便。此外，還可以提高被清洗物的表面性能，例如提高表面的潤濕性和附著力。大氣壓等離子表面處理設備具有上述諸多優點，在各個領域中脫穎而出。

表面清潔可以定義為去除吸附在表面上的非必要外來物質的清潔過程，這些外來物質會對產品的工藝流程和性能產生不利影響。清潔對于先進制造至關重要工藝步驟。工業清洗從工件表面去除多余的材料，最大限度地減少成本和環境影響。清潔目標包括提高涂層對表面的附著力以及提高涂漆和印刷產品的質量。

改善表面潤濕性和薄膜附著力等表面功能在許多新工藝中發揮著重要作用。等離子清洗后的材料表面無油污，無需再加工，提高了整個工藝的加工效率。操作員可以避免有害溶劑的損壞。因此，它被完全（完全）洗滌。清潔物品不需要過多考慮形狀，也可以處理多種材料。特別適用于不耐高溫且不含溶劑的材料。因此，等離子清洗技術受到了極大的關注。等離子清洗機應用于印刷/包裝、汽車制造、生物醫藥、精密電子設備等行業，包括醫療器械領域。

極耳等離子體蝕刻

隨著電壓的增加和電源頻率的增加，極耳等離子體蝕刻處理強度變為：處理效果好，因為它高，但是如果電源頻率太高或電極間隙太寬，電極之間會發生過多的離子碰撞，會產生不必要的能量。如果電極間距過小，會導致感應損耗和能量損耗。當加工溫度高時，表面特性迅速變化。處理時間越長，極性基團越多，但如果處理時間過長，表面可能會產生分解產物。冷等離子體裝置 [5] 在密閉容器中安裝兩個電極以產生電場，并使用真空泵實現一定程度的真空。

其次，極耳等離子體蝕刻機器高濃度的環氧乙烷與空氣混合具有爆炸性，通常使用12%的環氧乙烷和88%的氟氯烴的混合物，但氯氟烴對地球臭氧層的破壞很嚴重，因此會造成嚴重的破壞。上述問題的存在限制了環氧乙烷滅菌的應用，同時也促進了其他更先進的醫用滅菌技術的研究和推廣。基于以上原因，我們正在進行低溫等離子滅菌技術的研究。低溫等離子滅菌技術的主要特點如下。