如微細結構電子線路的刻蝕、光致抗蝕膜的清洗、提高尖端部位絕緣層等各種薄膜的覆蓋能力等均可以采用等離子體清洗技術。雖然它應用到生產實踐中的時間還不長，薄膜附著力的癥狀但已證明它確實具有實用性強、可靠性好、經濟性佳及無公害性的優點。。

其次，光學薄膜附著力國家標準等離子處理后的手機屏幕在涂覆或噴涂時，等離子設備中的活性成分會迅速與材料、噴涂材料形成化學鍵合，可大大提高分子間鍵合強度，使薄膜不易松動。在LCD的COG組裝過程中，將芯片IC安裝到玻璃上，利用金球的壓縮變形將ITO玻璃上的引腳與IC上的引腳連接起來。由于細線技術的不斷發展，現已發展到生產螺距20um、線10um的產品。

低功率的等離子處理，光學薄膜附著力國家標準能夠改變薄膜表面結構，增加熱穩定性、機械性能、阻隔性能，減少薄膜透光性和水溶性，同時具有優良的薄膜表面的滅（菌）功能，滿足了食品包裝在食品工業中應用的加工性及（安）全衛生性要求，進一步拓展了未來綠色包裝材料的研發空間，也為低溫等離子處理技術的多功能應用提供了可能。。

這種刻蝕既有化學作用又有物理作用，光學薄膜附著力國家標準有良好的刻蝕效果,同時兼有各向異性和選擇性好的優點。目前,RIE已成為超大規模集成電路制造工藝中應用最廣泛的主流刻蝕技術。。近年來，隨著市場需求的不斷擴大，液晶顯示屏和功能面板玻璃或觸摸屏的貼合已成為提高顯示器環境適應性能和可靠性的有效措施，尤其在車載顯示領域，全貼合技術已經成為主流技術，目前主要采用液態光學膠（LOCA/OCR）作為全貼合的介質。

薄膜附著力的癥狀

表面等離子體處理設備的等離子體剝離使用了優秀的組件和軟件，可以輕松控制工藝參數，其過程監控和數據采集軟件可以實現嚴格的質量控制。這項技術已經成功。適用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電子器件、電子器件、MOEMS、生物器件、LED等領域。加工前治療后研究發現，硅片表面在處理前殘留大量光刻膠，經表面等離子體處理設備等離子體脫膠處理后，表面光刻膠全部去除，效果很好。。

等離子體聚合用于保護膜、光學材料、電子材料、分離膜、醫用材料等的表面改性已得到廣泛的研究。等離子體表面處理器中的等離子體聚合可用于制備導電聚合物薄膜，在電子器件和傳感器等方面具有廣闊的應用前景，還可用于制備光刻膠膜、分離膜、絕緣膜、光學材料的反射率和折射率控制、薄膜波導、生物醫用材料等質膜。分離中研究最多的質膜有氣體分離膜、滲透汽化膜和反滲透膜。

科學研究結果表明，低溫等離子體表面處理設備在生物育種中具有以下五種基本功能:1、顯著提高萌發潛力和成活率。低溫等離子體表面處理設備能提前1~2d促進種子萌發和發芽。發芽勢和發芽勢也顯著提高，特別是老種子和發芽勢低的品種可以提高發芽勢10% ~ 15%;2、減輕癥狀。

光學薄膜附著力國家標準