低溫等離子處理技術有效去除物體表面的污漬等離子有效成分包含：離子、電子器件、活性基團、核素(亞穩)、光子等。低溫等離子處理設備是根據這些活性成分對樣品進行表面處理，以實現清潔。同固體、液體、汽體一樣，等離子是化學物質的一種情況，也被稱為物質的第四態。給氣體足夠的能量，使它離化成等離子態。等離子的“活性”成分包含：離子、電子器件、活性基團、核素(亞穩態)、光子等。低溫等離子處理設備根據這些活性成分的性質來處理樣品表面，從而達到清潔、改性的目的。
低溫等離子處理設備的原理主要依靠等離子中活性粒子的活化作用來去除物體表面的污漬。對于反應原理等離子清洗往往包含下列環節：無機物氣體被激發為等離子；氣質聯用化學物質吸附在固體表面；吸附該基團與固體表面的分子反應生成產物分子；產物分子分析形成氣質聯用；產物分子分析形成氣質聯用；反應殘渣與表面分離。低溫等離子處理技術有效去除物體表面的污漬00224345