非反應(yīng)性氣體電離后，氬氣蝕刻主要依靠離子的物理影響來去除污染物。在清潔過程中，一些氣體還會(huì)改變材料的表面特性。例如，氮等離子體可以提高金屬材料的硬度和耐磨性。 ..另外兩種常用的氣體是氬氣和氦氣，它們的優(yōu)點(diǎn)是擊穿電壓低，等離子體穩(wěn)定。其中，氬原子的電離能ε為15.75eV，氬等離子體中含有大量半穩(wěn)態(tài)原子。理想的物理反應(yīng)氣體。在實(shí)際清洗中，使用單一的物理或化學(xué)效果是不好的。

氬氣本身是惰性氣體，氬氣蝕刻等離子氬氣不與表面反應(yīng)，但會(huì)通過離子沖擊清潔表面。典型的等離子化學(xué)清洗工藝是氧等離子清洗。等離子體產(chǎn)生的氧自由基具有很強(qiáng)的反應(yīng)性，很容易與碳?xì)浠衔锓磻?yīng)生成二氧化碳、一氧化碳和水等揮發(fā)物，從而去除表面污染物。... 2.2 激勵(lì)頻率的分類等離子體態(tài)的密度與激發(fā)頻率之間存在如下關(guān)系。 nc = 1.2425 × 108 v2其中 nc 是等離子體態(tài)的密度 (cm-3)，v 是激發(fā)頻率。

由于金屬氧化物會(huì)與工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，氬氣蝕刻因此必須使用氫氣或氬氣的混合物。也可以使用兩步處理過程。首先氧化5分鐘，然后與氫氣和氬氣混合以去除表面氧化物。也可以同時(shí)處理多種氣體。等離子表面處理技術(shù)需要增加材料表面的潤濕性。五。有助于改善電連接器和電纜系統(tǒng)之間的連接。在電鍍、連接和焊接等操作過程中，良好的連接很容易被削弱，這些殘留物可以通過等離子表面處理技術(shù)選擇性地去除。

粘合：良好的粘合通常會(huì)因電鍍、粘合和焊接操作中的殘留物而減弱，氬氣蝕刻機(jī)器這些殘留物可以通過等離子方法選擇性地去除。同時(shí)，氧化層也對(duì)鍵合質(zhì)量產(chǎn)生不利影響，需要等離子清洗。處理氣體可以是氧氣、氫氣或氬氣。適用于PE、PTFE、TPE、POM、ABS、PP等。塑料、玻璃和陶瓷的表面（活化）和清潔塑料、玻璃和陶瓷是非極性的，例如聚乙烯 (PE)、聚丙烯 (PP) 和聚四氟 (PTFE)。

氬氣蝕刻機(jī)器

氬等離子清洗機(jī)的表面張力大大提高?；钚詺怏w產(chǎn)生的等離子體也可以增加表面粗糙度，但氬氣電離產(chǎn)生的粒子比較重，而且氬離子在電場作用下的動(dòng)能要高得多。活性氣體的作用越來越明顯，被廣泛應(yīng)用于無機(jī)基材的表面粗化處理。玻璃基板表面處理、金屬基板表面處理等③ 活性氣體支撐等離子清潔器活化和清潔過程通常使用工藝氣體的組合來獲得更好的結(jié)果。由于氬氣的分子比較大，電離后產(chǎn)生的顆粒在表面清洗和活化時(shí)一般會(huì)與活性氣體混合。

2.等離子清洗技術(shù)的主要射頻功率和微波功率組件機(jī)為自制，設(shè)備性價(jià)比高； 3.腔體容積：40-2000升；反應(yīng)室結(jié)構(gòu)定制4、等離子清洗工藝所用氣體：氬氣（AR）/氮?dú)猓∟2）/壓縮空氣（CDA）/CF4/等氣體； 5、您可以根據(jù)實(shí)際需要定制在線真空等離子清洗機(jī)，連接您的流水線，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。

等離子技術(shù)的優(yōu)勢(shì)：在噴漆、噴漆、模內(nèi)裝飾和模內(nèi)貼標(biāo)之前對(duì)復(fù)雜的汽車內(nèi)飾部件（例如儀表板和車門）進(jìn)行準(zhǔn)確快速的預(yù)處理，以快速均勻地使表面煥然一新。處理過程只需要空氣、氧氣和氬氣等工藝氣體。環(huán)保、環(huán)保，不使用化學(xué)溶劑，對(duì)產(chǎn)品或環(huán)境無二次污染。破壞處理和定時(shí)處理，高速處理，清洗效率高。。

選擇“（圖片5.3.2功能圖片）”參數(shù)頁面“（圖片5.3.3參數(shù)圖片）。更改洗滌時(shí)間或清除洗滌數(shù)據(jù)。 2.點(diǎn)擊下一步進(jìn)入手冊(cè)頁，設(shè)置氧氣和氬氣閥門打開，返回主機(jī)界面。 3.調(diào)整功率。功率調(diào)節(jié)范圍為80%到%，根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要進(jìn)行調(diào)節(jié)。四。放置要處理的對(duì)象在型腔內(nèi)，關(guān)閉型腔門并按下啟動(dòng)按鈕開始疏散。五。一旦腔體產(chǎn)生輝光，根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求手動(dòng)調(diào)節(jié)流量計(jì)旋鈕添加輔助氣體。 6.達(dá)到處理時(shí)間后，平衡閥自動(dòng)恢復(fù)，3秒左右恢復(fù)到常壓。

氬氣蝕刻機(jī)器

等離子清洗工藝中常用的氣體是氬氣、氮?dú)夂脱鯕狻＿@些氣體本身沒有毒性。一般來說，氬氣蝕刻它不會(huì)產(chǎn)生有毒氣體，因此氣體的濃度不會(huì)超過一定的濃度。等離子清洗機(jī)在運(yùn)行過程中，會(huì)產(chǎn)生大量的OH、HO2、O3等具有強(qiáng)氧化能力的活性自由基，并與有害氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成無害產(chǎn)品。冷等離子技術(shù)是高環(huán)保、高安全系數(shù)的高新技術(shù)之一。以上就是小編要回答你的問題了。