雖然還不清楚具體的原因（可能的原因包括增加了細胞受體的數量以及提高了通往核子的信號路徑），射頻等離子清洗機廠但這對于改進注入裝置上的組織支架的發展存在重要意義。 在等離子體環境下表面的形態可以被選擇性的改變，既可以通過提高離子撞向表面的加速度，也可以通過化學刻蝕工藝。電容耦合射頻等離子體中的離子通常情況下是網狀方向性的向基體移動。這取決于離子和電子對于產生等離子體的電場極性改變的反應時間。
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解析等離子清洗機幾種頻率的區別常用的等離子體激發頻率有三種：激發頻率為40kHz的等離子體為中頻等離子體，射頻等離子清洗機廠13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。 不同等離子體產生的自偏壓不一樣，中頻等離子體的自偏壓為 0V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機制不同。
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