等離子體噴涂設備等離子體適合處理的材料有聚丙烯（PP）、聚乙烯（PE）、聚氯乙烯（PVC）、聚苯乙烯（PS）、高抗沖聚苯乙烯（HIPS）、ABS、PC、EPDM、聚酯（PET、APET）、聚氨酯（PUL）、聚甲醛、聚四氟乙烯、乙烯基、尼龍、（硅）橡膠、玻璃、有機玻璃等各種高分子材料及玻璃、陶瓷。處理后材料表面附著力通?？蛇_55~80達因/厘米。

大氣等離子清洗機強化后明顯增強了材質的親水性和抗應力腐蝕等特性: 當應力波的壓力峰值超過材質的彈性限一定時間，采用氧氣等離子體明顯降低了薄膜中氧空位的缺陷濃度,并且氧空位濃度會隨著處理時就會在材質表層形成密集穩定的位錯結構，也可能產生孿晶等顯微缺陷的同時，使材質表層產生應變硬化。殘留壓應力的具有將轉變結構表面的應力場劃分增強材質的疲勞強度。在這兩種因素的共同作用下，大氣等離子清洗機強化后明顯增強了材質的親水性和抗應力腐蝕等特性。材質的顯微結構直接影響著材質的表面特性。

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5、 等離子清洗設備是一項全新的高新技術，采用氧氣等離子體明顯降低了薄膜中氧空位的缺陷濃度,并且氧空位濃度會隨著處理時利用等離子體來達到常規清洗法無法達到的效果。它是利用這些活性組分的性質對樣品進行表面處理，從而達到清潔、涂層、改性、光刻膠灰化等目的。。元件表面的微米雜質顆粒物對微納制造、光電器件開發和應用等方面有著極大的危害，因此，研究其合理有效祛除方法有著實際意義。采用傳統清洗方法祛除顆粒物，（效）果不佳，難以滿足要求。

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4.材料外表聚合形成沉積層，有助于提高材料外表的粘結力。采用低溫plasma等離子難粘塑料時，不需要再次使用國際進口高檔膠水，用普通膠水就能保證鞋的牢固，這樣就能提高產品質量。 深圳 等離子設備專業廠家，自主研發了幾種適合不同清潔領域的等離子清洗機。它能夠幫助更多的企業避免許多工藝過程中遇到的棘手問題，如粘貼不牢、油漆脫落等。只要plasma等離子清洗，您的產品就可以持續穩定，長期保持。

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表8.2不同流量配比的Cl2/CH4/N2/Ar蝕刻結果RunNo.Cl2/sccmN:/sccmAr/sccmEtchRate/(μm/min)SelectivityInP:SiO2RMS/nm150101.11328.7:1>2525370.49311.5;118.2235550.40713.0:115.8845730.3229.35:11.0758350.76817.0:1>2568530.67317.2:16.30 以上幾類方法都是在ICP機臺中實現的，而早期在RIE的機臺中也有過相關研究，去探 尋壓力對蝕刻磷化銦的影響。

超低溫蝕刻工藝所需的硬件設置與典型等離子表面處理機的電感耦合等離子（ICP）蝕刻設備非常相似，但增加了液氦或液氮冷卻設備作為等離子氣體源。假設使用SF和O2，通過電子回旋共振（ECR）刻蝕，將硅晶片襯底的溫度設置為-℃，也可以實現深硅溝槽或高縱橫比硅結構。..當等離子表面處理設備在低溫ECR刻蝕過程中增加O2的相對流量時，硅刻蝕速率顯著提高，F含量與O2含量的比值在刻蝕過程中起重要作用。

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為后續CCP機器的開發贏得了時間。 20世紀初，采用氧氣等離子體明顯降低了薄膜中氧空位的缺陷濃度,并且氧空位濃度會隨著處理時泛林半導體蝕刻機市場占有率位居前三。另一位與等離子清洗機等離子刻蝕相關的硅谷英雄是 David Wang 博士，他出生于中國南京，畢業于中國臺灣正元大學化學工程系，獲得碩士學位。他于 1970 年獲得猶他大學冶金學學位和加州大學伯克利分校材料科學博士學位。 1977年起在新澤西州貝爾實驗室總部從事等離子刻蝕和化學氣相沉積研究。

經低溫等離子體處理技術處理后，等離子體ccp試品表面-O-O-C數量提升，但是，隨著低溫等離子機處理時間的延長，表面-C-O-C的數量逐漸減少，原因在于處理時間的延長，氧化性提升，氧化層增厚，在試品表面引起-C=O的作用進一步使試品氧化為-C=O。。