應用對測試芯片半導體的技術要求:在芯片或芯片工藝中，涂料附著力檢查儀器異構性尤其突出，因為在芯片納米級工藝中，如12納米或7納米工藝，結構和取向各異。同時，還要求液滴角度測試儀具備拍攝、截圖、光學相機等功能。滴角度測量儀器的適用的屬性要求它能敏感地捕捉角度的微小變化引起的左和右的清洗效果差,在一個小范圍的上下microdroplets(盡量低于1毫升,使用超細針)。

等離子清洗機也叫等離子清洗機，涂料附著力檢查儀器或等離子表面處理儀器，是一種新型的高科技技術，使用等離子達到常規清洗方法所不能達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，又稱物質的第四種狀態，不屬于常見的固體、液體和氣體狀態。給氣體施加足夠的能量使其游離成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態核素(亞穩態)、光子等。

低溫等離子處理器在塑料纖維聚合物薄膜表面處理中的應用：聚合物化合物相對于金屬材料具有較低的相對密度、較低的比強度和模量、耐腐蝕、成型加工更容易、成本更低、化學穩定性好。優異的熱穩定性、優異的介電性能、低摩擦系數、優異的潤滑性能、優異的耐候性等諸多優點，涂料附著力檢查儀器包裝、印刷、農業、輕工、電子、儀器儀表、航空航天、醫療廣泛應用于設備、復合材料等. 在行業中。

2)AR是一種罕見的氣體。被電離的離子體不容易與底物發生化學變化。適用于等離子清洗基材表面的物理清洗和表面鈍化處理。較大的特點是表面清洗不易引起高精度電子儀器的表面氧化。因此AR等離子清洗機廣泛應用于半導體、微電子、晶圓制造等行業。等離子體處理器中電離的AR等離子體呈暗紅色。在相同的放電環境下，附著力檢查儀器氫氣和氮氣的等離子體會呈現紅色，而AR等離子體的亮度會低于氮氣，高于氫氣，所以更容易區分。。

附著力檢查儀器

等離子體與材料表面相撞時，等離子體會將自身的能量傳遞到材料表面上的分子和原子，從而發生一系列物理、化學反應過程。通過向材料表面注入粒子或汽體而產生碰撞.散射.激發.重組.異構.缺陷.晶化和非晶化，以達到改變材料表面性質的處理效果。—等離子體表面處理儀器表面處理時，向放電汽體中加入化學反應汽體，在被激活的材料表面發生了復雜的化學反應。

這些污染物的去除通常在清潔過程開始時進行，主要使用硫酸和過氧化氫等方法。 1.3 金屬半導體技術中常見的金屬雜質包括鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀和鋰。這些雜質的主要來源是：在各種儀器、管道、化學試劑、半導體芯片的加工過程中，隨著金屬互連的形成，也會產生各種金屬污染物。通常通過化學方法去除這些雜質。用各種試劑和化學品制備的清洗溶液與金屬離子反應形成金屬離子絡合物，并從晶片表面分離。

給氣體施加足夠的能量使其游離成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、激發態核素(亞穩態)、光子等。等離子體清洗機就是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，從而達到清洗、改性、光刻膠灰化等目的。(北京真空等離子清洗機)等離子清洗機的清洗原理,材料的等離子體是一種存在狀態,一般在固體物質,液體和氣體三種狀態存在,但在一些特殊情況下有四個狀態存在,如在地球大氣層電離層。

用ICCD高速攝像機拍攝DBD放電的側面圖像，用ITO透明電極作為下電極和45°平面鏡片輔助，可以拍攝到放電區域的底部。所測量的外加電壓Va，放電總電流Vi和所計算的氣隙電壓Vg波形，其中所測量的準正弦虛線為外加電壓波形，而細實線為電流波形。在每半個周期的外加電壓上有一個電流脈沖，這是在等離子體刻蝕機大氣壓下介質阻擋均勻放電的一個典型特征。

涂料附著力檢查儀器

電子加速機理的理想條件是在電子與氬原子彈性碰撞并改變運動方向的瞬間電場發生旋轉，涂料附著力檢查儀器從而增加了電子的速度和能量。電場強度很弱，電子也可以獲得電離能的能量，在這種機制下，電場頻率的理想范圍通常是幾千兆赫。有學者擴展上述機理，認為從壁和陰極發射的二次電子被離子鞘加速進入輝光放電區，成為屬于這種現象的額外電子源。二次電子倍增。當發射二次電子時對電場進行整流，實現了相位一致性，有效地提高了電離。。

利用等離子體清洗機對材料進行等離子體預處理，附著力檢查儀器可以顯著提高太陽能電池組件的質量，提高密封性能，保證組件的長期穩定性和耐候性。。用等離子清洗機處理銅引線框架引線框架作為封裝的主要結構材料，對所選材料有嚴格要求，必須具有高導電性、好導熱性、高硬度、優異的耐熱耐蝕性、良好的可焊性和低成本等特點。從現有常用材料來看，銅合金可以滿足這些要求，作為主要引線框架材料。