等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣https://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.png(Oxygen,https://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngO2)、氬氣http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.png(Argon,http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngAr)、氮氣http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.png(Nitrogen,http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngN2)、壓縮空氣http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.png(Compressedhttp://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngAir,http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngCDA)、二氧化碳http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.png(Carbon,http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngCO2)、氫氣（hydrogen,http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngH2）、四氟化碳（Carbonhttp://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngtetrafluoride,http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.pngCF4）等。等離子清洗機是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對工件進行表面處理，無論是進行清洗還是表面活化，為達到最佳的處理效果我們會選用不同的工藝氣體。
氧氣
氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學的處理方式，電離后產(chǎn)生的離子體能夠對表面進行物理轟擊，形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學反應形成活性基團的親水表面，達到表面活化的目的；被斷鍵后的有機污染物的元素會與高活性的氧離子發(fā)生化學反應，形成CO、CO2、H2O等分子結構脫離表面，達到表面清洗的目的。
氫氣
氫氣與氧氣類似，屬于高活性氣體，可以對表面進行活化及清洗。氫氣與氧氣的區(qū)別主要是反應后形成的活性基團不同，同時氫氣具有還原性，可用于金屬表面的微觀氧化層去除且不易對表面敏感有機層造成損壞。所以在微電子、半導體及線路板制造行業(yè)使用較廣。
氮氣
氮氣電離形成的等離子體能夠與部分分子結構發(fā)生鍵合反應，所以也是一種活性氣體，但相對于氧氣和氫氣而言，其粒子比較重，通常情況下在等離子清洗機應用中會把此氣體界定在活性http://www.92188.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00008.png氣體氧氣、氫氣與惰性氣體氬氣之間的一種氣體。在清洗活化的同時能夠達到一定轟擊、刻蝕的效果，同時能夠防止部分金屬表面出現(xiàn)氧化。
經(jīng)過等離子清洗機表面處理后的物件，其粘接強度和附著力與等離子表面處理的參數(shù)，包括真空腔的電極結構、放電真空度、氣體類型和比例、氣體流量的大小、處理時間、電源的功率等因素有關密切關系；而且等離子處理后的表面基團具有一定的時效性，所以應盡快完成相關生產(chǎn)。24672