等離子清洗機清洗方式的選擇及激發頻率差異等離子清洗作為一種新型清潔處理技術，除了具有超清洗功能外，該清洗技術易采用數控技術，自動化程度高，正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證，清洗零部件表面處理后性能持久穩定，保持時間長，并且具有無污染，無廢水，符合環保要求。下面就讓我們一起來了解下等離子清洗機清洗方式的選擇和不同激發頻率的差異：
等離子清洗機清洗方式的選擇
以物理反應為主的等離子清洗，其優點在于本身不發生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性，腐蝕作用各向異性:缺點就是對表面產生了很大的損傷，會產生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質選擇性差，腐蝕速度較低。典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗，氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。以化學反應為主的等離子清洗的優點是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點是會在表面產生氧化物。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣、氫氣等離子清洗。通過等離子體產生的氧自由基非常活潑，容易與碳氫化合物發生，產生二氧化碳，一氧化碳和水等易揮發物，從而去除表面的污染物。
以物理反應和化學反應都起重要作用的等離子體清洗，兩種反應清洗可以互相促進，離子轟擊使被清洗表面產生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產生反應:其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。典型的等離子體清洗工藝是氬氣和氧氣按一定比例混合進行等離子清洗。
等離子清洗機激發頻率差異分類
等離子態的密度和激發頻率由如下關系:nc=1.2425X108V2,其中nc為等離子態密度(cm-3)，v為激發頻率(Hz)。
常用的等離子體激發頻率有三種:第一種是激發頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，第二種是13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，第三種是2.45GHz的等離子體為微波等離子體。超聲等離子體發生為物理反應，射頻等離子體發生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體發生的反應為化學反應。因此在實際應用中，根據清洗物基材類型的不同，可選擇不同激發頻率類型進行等離子清洗處理。等離子清洗機清洗方式的選擇及激發頻率差異00224685