等離子去膠原理干法式去膠又被稱為等離子去膠，二氧化硅親水性處理其原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環境中發生反應來去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳氫有機物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除，在反應氣體中加入氮氣或者氫氣可以提高去膠性能、加強對殘留物的去除。

E-01mbar，二氧化硅親水性處理氣體在電磁放電的作用下轉化為等離子體，然后帶電粒子和中性粒子與聚合物表面相互作用。等離子體首先從工件表面去除有機污染物，其中碳氫化合物(如二氧化碳和水分子)被轉化為原子或基團，離開工件表面。然后將聚合的氨基表面分子注入到官能團中。該官能團極大地提高了聚合物的表面能。

隨著針板反應器上下放電電極之間的距離從8 mm增加到16 mm，二氧化硅涂層恢復親水性甲烷轉化峰形略有變化。 22.0%。當排放間隔從10mm變為16mm時，幾乎沒有CO2轉化的影響，只有排放間隔為8mm時二氧化碳轉化率才高，為21.8%。 C2 烴的產率隨著排放距離的增加而略有變化。在 10 mm 的放電距離下，C2 烴的收率很高，為 12.7%。

經過聚合物氣體等離子體處理后，二氧化硅涂層恢復親水性粉末表面的聚合物膜與粉末形成了很強的化學鍵，大大提高了體系的相容性。因此，等離子體處理可以顯著提高材料的力學性能。（1）不斷提高粉末的著色力、遮蓋力和保色力，廣泛應用于涂料或涂料中。涂層或油漆經等離子體處理后，可改善涂層和染料的表面性能。為了更好地增加某些顏料的遮蓋力和著色力，可以用一些性能較好的無機物包覆，如氧化鋁、硅包覆二氧化鈦等。

二氧化硅涂層恢復親水性

氧自由基處于不穩定的高能??狀態。當轉化為小分子時，很可能發生分解反應并產生新的氧自由基。這個反應過程可能會繼續下去，最終分解成水、二氧化碳和其他簡單的東西。在其他情況下，當氧自由基與物體表面的分子結合時，這種能量也是引發新的表面反應的驅動力，從而引發化學反應。用于去除物質的物體表面。對物體表面的撞擊使吸附在物體表面的氣體分子分解吸附，大量的電子碰撞引起化學反應。電子的質量非常小，移動速度比離子快。

已經報道了由二氧化碳氧化CH4生產C2烴的路線。由于等離子洗滌器的作用，二氧化碳將CH4氧化成C2烴類可分為間接法和直接法。用于合成 C2 碳氫化合物的支出。 Zhou等人以介質阻擋放電的形式實現了二氧化碳復合CH4反應。當注入能量為87kW.h/(N·m3)時，甲烷的轉化率為64%，碳的轉化率為64%。二氧化碳為54%。加侖等人。和Pinhaoetal。

橡樹嶺實驗室正在開發一種新的等離子體化學處理過程，基于橡樹嶺國家實驗室最近的發現，對于某些分子，高度激發態的電子可以產生一個非常大的等離子體橫截面連接到電子。此外，相關研究人員正在利用放電效應和亞穩惰性氣體激發轉移效應研究目標激發反應，可以精確激發目標氣體，而不浪費能量在含氮、含氧載氣上，從而大大降低處理成本。。非平衡等離子體污染治理可以通過選擇等離子體作為輔助處理工藝來減少大氣污染對環境造成的破壞。

等離子等離子清洗機去除表面油漬，實現超強清洗活化表層的目的； ITO玻璃片的等離子處理可以增加表層的滲透性，去除污垢，減少氣泡產物，去除圖案后殘留的化學物質。當前顯示器制造過程中的 Post-X-Link 需要在顯示器表面涂上特殊涂層。這種涂層提高了顯示器的耐刮擦性，并提高了 PC（聚碳酸酯）和 PMMA 表面層的質量。必須對表面層進行預處理，以確保涂層的良好附著力。

二氧化硅涂層恢復親水性

與金屬相比，二氧化硅親水性處理塑膠的硬度、剛度和強度都比金屬低。多種共聚物都可以具有類橡膠的彈性。塑膠材料可以進行添加物和填充物對各個方面進行改性，也可以調節其導電性能，或使用高性能纖維強化加工處理，以獲得優于鋼的剛性。